Диссертация (1104202), страница 5
Текст из файла (страница 5)
В классическом исполнении при осаждении образец на некоторое помещается в раствор с интересующими объектами и черезнекоторое время высушивается. Метод допускает повторное осаждение в случае, если электрические измерения свидетельствуют об отсутствии молекулы взазоре.Предпринимались различные попытки оптимизации этого простого метода. В частности в работе [70] был предложен экспресс метод многократного повторения процесса осаждения наночастиц и измерения проводимости нанозазоров. Он был реализован с помощью более быстрого в сравнении с классическимметода вакуумного нанесения наночастиц на образец.
Образец находится в вакууме, над ним помещается раствор с наночастицами, отделённый от вакуумнойкамеры клапаном. Время, на которое открывается клапан, меньше 1 мс. Через1 с после этого проводятся электрические измерения. Такой подход позволяетминимизировать риск попадания в нанозазор сразу нескольких частиц за счётдобавления их небольшими порциями. Правда стоит отметить, что подобные методы не получили широкого распространения в связи с тем, что обеспечиваемоеими увеличение выхода годных транзисторов незначительно.
Годными здесь идалее называются такие транзисторы, которые демонстрируют типичное длятакого одноэлектронного элемента электрическое поведение.Несколько более технологичный подход — использование самоорганизующихся молекул для создания одномолекулярных и даже более сложных одноэлектронных устройств. Это направление может оказаться крайне перспективным и открывает множество возможностей. Сегодня уже продемонстрированы экспериментально несколько интересных примеров самоорганизации,которые можно было бы использовать для создания сложных одноэлектронных устройств [71]—[74].
Однако экспериментальное изучение электрических24свойств подобных структур пока достаточно затруднительно — это отдельнаябольшая работа. На данный момент речь идёт о довольно простых механизмахсамоорганизации [36], [75], которые безусловно проблему случайного расположения молекул относительно электродов решить не могут.Cуществуют работы, в которых демонстрируется техника адресной доставки рабочих объектов в зазор между электродами. Она носит название электротреппинг и использует эффект диэлектрофореза [76]. Эффект заключается втом, что на незаряженную частицу, находящуюся в неоднородном электрическом поле, действует сила по направлению градиента поля за счёт поляризациичастицы [77].
Технически встраивание осуществляется следующим образом. Образец помещается в раствор с наночастицами, между стоком и истоком задаётсяразность потенциалов. Электрическое поле наиболее сильное в области зазора,поэтому со стороны поля сила, действующая на наночастицы, будет направленаименно туда. Для успешной реализации метода необходимо преодолеть случайное броуновское движение частиц. Случайное воздействие на частицу зависитот температуры и его силу можно грубо оценить как ℎ ≈ /, где, — константа Больцмана, — температура, — диаметр частицы [78].
Поэтому эффект работает лучше с частицами большего размера. Этот факт был продемонстрирован экспериментально в работе [79], где сравнивался захват частицразмером 5, 10 и 20 нм. Для захвата малых частиц приходилось увеличиватьразность потенциалов между электродами, что часто приводило к появлениювзаимной силы притяжения между поляризованными частицами и, как следствие, одновременному встраиванию нескольких частиц в зазор (рис. 1.7 б, в).Рисунок 1.7 — СЭМ снимки электродов с встроенными техникойэлектротреппинга золотыми наночастицами различных размеров: (а) — 20 нм,(б) — 10 нм, (в) — 5 нм [79]..25Однако, сообщений об успешном встраивании в нанозазоры частиц размером менее 5 нм с помощью электротреппинга в литературе нет. Продемонстрирована лишь принципиальная возможность манипулирования такими частицамина основе эффекта диэлектрофореза с помощью создания большого грандиента электрического поля.
В работе [80] такой градиент был создан вблизи углеродной нанотрубки за счёт её малого диаметра. В результате к нанотрубкевозможно было эффективно притянуть частицы размером до 2 нм. Поэтому,несмотря на то, что данный метод очень перспективен, он всё ещё нуждается висследовании для его использования при создании высокотемпературных одноэлектронных транзисторов. Подробнее этот метод и его исследование в рамкахданной диссертационной работы будет представлен в главе 3.1.4Методы создания одноатомных транзисторовПредельно малые одноэлектронные элементы основаны на зарядовых центрах, образованных единичными атомами.
Атом должен быть тем или инымобразом зафиксирован в пространстве. Например, это может быть реализованопутём встраивания атомного зарядового центра внутрь органической молекулына стадии её синтеза [81]. В таком случае, транзистор на основе одиночного атома формируется методами одномолекулярной электроники, описаными выше[82]. Однако более популярный подход — это использование примесных атомовв кристаллической решётке. На данный момент он позволяет получать болеестабильные структуры, более устойчивые к таким внешним факторам, как, например, термоциклирование. Такой подход является логическим продолжениемразвития полупроводниковой электроники на протяжении последних 50 лет. Поэтому для создания подобных устройств в основном используются хорошо отработанные в промышленности технологические процедуры.
Главной сложностьюв реализации одноатомных устройств на основе одиночных атомов являетсянеобходимость точного контроля количества и пространственного расположения примесных атомов в кристаллической решётке. В большинстве работ используется статистический подход для исследования интересующих эффектовв одноатомных структурах, когда экспериментальные структуры отбираютсяиз большого количества изготовленных образцов [83]—[87]. В основном речь26идёт о примесных атомах в кристаллической решётке кремния. В качестве примесей используются стандартные для кремниевой электроники примеси: бор,фосфор, мышьяк.
Причина выбора материалов простая: технологии работы сними хорошо отработаны на сегодняшний деньПроблема точного позиционирования примесей является важной не только для одноатомных устройств, но и для современных полупроводниковых полевых нанотранзисторов. Поэтому на решение этой непростой задачи направленыдовольно большие усилия. Наиболее технологичной стоит считать технику легирования одиночными ионами с помощью модифицированной колонны FIB’а[88]. При бомбардировке таким FIB’ом образца контролируется положение будущей примеси с точностью до фокусировки ионов, обеспечивается очень низкийток пучка во избежание одновременной имплантации несколькими ионами, амомент попадания иона в образец регистрируется либо с помощью детекторавторичных электронов [89], либо по изменению сопротивления имплантируемого нанопровода [90]. На сегодняшний день эти методы находиться в стадииразвития и, возможно, в будущем найдут своё применение.
Однако пока ониотносятся к разряду интересных экспериментов.Большей точностью отличается метод, использующий иглу сканирующеготуннельного микроскопа для позиционирования примесей внутри кристаллической решётки [91] (рис. 1.8). Метод базируется на технике литографии, использующей в качестве своеобразного резиста моноатомный слой водорода [92]. Технология осаждения атомов фосфора из газовой фазы на реакционно активнуюповерхность кремния [93] и эпитаксиального роста кремния позволяют перенести рисунок, сформированный предварительно в слое резиста в структуру изпримесных атомов, заключённых внутри решётки кремния.Данная технология позволила провести ряд уникальных экспериментов[95], [96]. Однако на сегодняшний день её использование сильно ограничено всвязи со сложностью и нестандартностью подхода.
Она требует проводить всетехнологические процедуры в условиях сверхвысокого вакуума во избежаниезагрязнения поверхности. Кроме того, этот метод испытывает трудности с масштабируемостью. Это связано с тем, что литография с помощью иглы зондовогомикроскопа является принципиально медленным процессом.Как видно из сказанного выше, задача создания одноатомных устройствна основе примесных атомов на сегодняшний день очень актуальна. При этом,оптимальным было бы её решение на основе широко распространённых в полу27Рисунок 1.8 — Технология позиционирования примесей в полупроводнике спомощью иглы сканирующего туннельного микроскопа [94]..проводниковой индустрии и поэтому хорошо исследованных технологий, такихкак нанолитография, напыление тонких плёнок, жидкостное и реактивно-ионное травление.
Это позволило бы открыть возможность для исследования электронного транспорта через различные примесные атомы для большего количества научных коллективов, а также позволило бы проводить эксперименты сприменением одноатомных транзисторов для различных целей. Наиболее простое в реализации применение — использование транзистора в качестве сверхчувствительного сенсора.В большинстве работ одноатомные транзисторы были продемонстрированы в закрытой геометрии, когда затвор транзистора полностью окружает совсех сторон его канал [83]—[87]. Такая геометрия используется для достижения большего значения взаимной ёмкости острова транзистора с затвором, чтопозволяет наблюдать интересующие исследователей эффекты при меньших затворных напряжениях.















