Диссертация (1102520), страница 25
Текст из файла (страница 25)
— P.101610.85. Kolobov V. I. , Lymberopoulos D. P., Economou D. J. Electron kinetics and non-Jouleheating in near-collisionless inductively coupled plasmas // Phys. Rev. E. — 1997. —V.55. — N.3. — P.3408-3422.86. Kortshagen U., Maresca A., Orlov K., Heil B. Recent progress in understanding ofelectron kinetics in low-pressure inductive plasmas // Appl. Surf. Sci.
— 2002. — V.192.— P.244―256.87. Kortashagen U., Busch C. and Tsendin L. On simplifying approaches to the solution ofthe Boltzmann equation in spatially inhomogeneous plasmas // Plasma Sources Sci.Technol. — 1996. — V.5. — P.1-17.88. Kortshagen U., Pukropski I. and Zethoff M. Spatial variation of the electron distributionfunction in a rf inductively coupled plasma: Experimental and theoretical study // Journalof Applied Physics.
— 1994. — V.76. — P.2048.16489. Kolobov V. I., Beale D. F., Mahoney L. J. and Wendt A. E. Nonlocal electron kinetics ina low‐pressure inductively coupled radio‐frequency discharge // Appl. Phys. Lett. —1994. — V.65. — P.537.90. Kolobov V. I. and Arslanbekov R.R. Simulation of Electron Kinetics in Gas Discharges //IEEE Transactions on Plasma Science.
— 2006. — V.34. — N.3. — P.895―909.91. Гапонов А.В., Миллер М.А. О потенциальных ямах для заряженных частиц ввысокочастотном электромагнитном поле // ЖЭТФ. — 1958. — Т.34. — вып .1. —C. 242―243.92. Smolyakov A.I., Godyak V.A., and Tyshetskiy Y. Effect of electron thermal motion onthe ponderomotive force in inductive plasma // Phys.
Plasmas. — 2001. — V.8. — N.9.93. Mak-Kinnon K.A. On the origin of the electrodeless discharge // Philos. Mag. — 1929.— V.8. — N.52. — P.605–617.94. Баббат Г.И. Безэлектродные разряды и некоторые связанные с ними вопросы //Вестник электропромышленности. — 1942. — № 2. — C.1–12; — №3.
— C.2–8.95. Turner M.M. and Lieberman M.A. Hysteresis and E-to-H transition in radiofrequencyinductive discharges // Plasma Sources Sci. Techn. — 1999. — V.8. — P.313-324.96. Thownsend J.S., Donaldson R.H. Electrodeless discharges // Philos. Mag. — 1928. —V.5.
— N.27. — P.178–191; — 1929. — V.7. — P.600.97. Godyak V. A., Piejak R.B. and Alexandrovich B. M. The electron-energy distributionfunction in a shielded argon radiofrequency inductive discharge // Plasma Sources Sci.Technol. — 1995. — V.4. — P.332―336.98. Александров А. Ф., Вавилин К.В., Кралькина Е.А., Павлов В.Б., Савинов В.П..Влияниеиндуктивногоканаланапараметрыприэлектродныхслоевпространственного заряда в гибридном разряде // Вестник Московскогоуниверситета. Сер.
3, Физика. Астрономия. — 2010. — N.1. — C.43-45.99. Chen F.F. Plasma ionization by helicon waves // Plasma Phys. Contr. Fusion. — 1991.— V.33. — N.4. — P.339―364.100.Chen F.F. and Arnush D. Generalized theory of helicon waves I: Normal modes //Phys. Plasmas. — 1997. — V.4(9). — P.3411.101.Chen F.F. and Arnush D. Generalized theory of helicon waves II: Excitation andabsorption // Phys. Plasmas. — 1998.
— V.5. — P.1239 – 1254.102.Boswell R.W. Plasma production using a standing helicon wave //Phys. Lett. —1970. — V.33A. — N.7. — P.457―458.165103.Boswell R.W. Very efficient plasma generation by whistler waves near the lowerhybrid frequency // Plasma Phys. Contr. Fusion. — 1984. — V.26. — N.10. —P.1147―1162.104.Boswell R.W. and Henry D. Pulsed high rate plasma etching with variable Si/SiO2selectivity and variable Si etch profiles // Appl. Phys. Lett. — 1985. — V.47.
—P.1095.105.Boswell R.W. and Porteus R.K. Large Volume High Density RF InductivelyCoupled Plasma//Appl. Phys.Lett. — 1987. — V.50. — P.1130-1132.106.Boswell R.W. and Porteus R.K. Etching in a pulsed plasma //J. Appl. Phys. —1987. — V.62. — P.3123―3129.107.Boswell R.W. Effect of boundary conditions on radial mode structure of whistlers// Plasma Phys. — 1984. — V.31.
— P.197-208.108.Chen F.F. and Boswell R. W. Helicons—The Past Decade // IEEE Transactionson Plasma Sciences. — 1997. — V.25. — N.6. — P.1245―1257.109.Boswell R.W. and Chen F.F. Helicons, the early years // EEE Trans. Plasma Sci.— 1997. — V.25. — P.1229.110.Stevens J.E., Cecchi J.L. Wave Propagation and Plasma Uniformity in an ElectronCyclotron Resonance Plasma Etch Reactor // Japan J.
Appl. Phys. — 1993. — V.32. —P.3007–3012.111.Shamrai K.P. and Taranov V.B. Resonance wave discharge and collisional energyabsorption in helicon plasma source // Plasma Phys. Control. Fusion. — 1994. — V.36.— N.11. — P.1719―1735.112.Александров А.Ф., Воробьев Н.Ф., С.Г., Кралькина Е.А., Обухов В.А.,Рухадзе А.А., Теория квазистатических плазменных источников. // ЖурналТехнической Физики. — 1994. — Т.64. — № 11. — С.53–58.113.К.В.Вавилин,А.А.Рухадзе,М.Х.Ри,В.Ю.Плаксин.Радиочастотныеисточники плазмы малой мощности для технологических приложений. III.Геликонные источники плазмы // Журнал технической физики.
— 2004. — Т.74. —Вып.6. — С.29―34.114.А.Ф. Александров, Г.Э. Бугров, К.В. Вавилин, И.Ф. Керимова, Е.А.Кралькина, В.Б. Павлов, В.Ю. Плаксин, А.А. Рухадзе. Исследование индуктивногоВЧ разряда, как самосогласованной системы. VI. Математическое моделированиеиндуктивного ВЧ разряда (самосогласованная модель). // Прикладная физика.
—2006. — № 5. — С.34–39.166115.Александров А.Ф., Вавилин К.В., Кралькина Е.А., Павлов В.Б., Рухадзе А.А.Особенности индуктивного ВЧ разряда низкого давления. II (математическоемоделирование). // Физика плазмы. — 2007. — Т.33. — №9. — С.816 – 827.116.Александров А.Ф., Воробьев Н.Ф., Бугров Г.Э., Кондранин С.Г., КралькинаЕ.А., Обухов В.А., Рухадзе А.А. Высокочастотные источники плазмы низкоймощности. // Прикладная физика. — 1995.
— № 1. — C.3-22.117.Александров А.Ф., Бугров Г.Э., Вавилин К.В., Керимова И.Ф., КралькинаЕ.А., Павлов В.Б., Плаксин В.Ю., Рухадзе А.А.. Исследование индуктивного ВЧразряда, как самосогласованной системы. I. Особенности, наблюдавшиеся приэкспериментальном исследовании индуктивного ВЧ разряда, помещенного вовнешнее магнитное поле. // Прикладная физика. — 2005. — №4.
— С.70 – 74.118.Александров А.Ф., Бугров Г.Э., Вавилин К.В., Керимова И.Ф., КралькинаЕ.А., Павлов В.Б., Плаксин В.Ю., Рухадзе А.А.. Исследование индуктивного ВЧразряда,каксамосогласованнойсистемы.V.Результатыисследованияэквивалентного сопротивления индуктивного ВЧ разряда низкого давления приналичии внешнего магнитного поля. // Прикладная физика. — 2006. — № 4. —С.54 – 59.119.Chung Chin Wook, Kim S.
S., and Chang H.Y. Electron Cyclotron Resonance ina Weakly Magnetized Radio-Frequency Inductive Discharge // Phys. Rev. Lett. — 2002.— V.88. — N. 9. — P.095002―095002-4.120.Chung Chin Wook Kim S. S.,Chang H. Y. Experimental measurement of theelectron energy distribution function in the radio frequency electron cyclotron resonanceinductive discharge // PHYS. REV.
E. — 2004. — V.69. — P.016406―016406.121.Lee Ho-Jun, Yang II-Dong and Whang Ki-Woong. The effects of magnetic fieldson a planar inductively coupled argon plasma // Plasma Sources Sci. Technol. — 1996.— V.5. — P.383–388.122.Godyak V. A. and Alexandrovich B. M. Plasma and electrical characteristics ofinductive discharge in a magnetic field // Phys. Plasmas. — 2004. — V.11. — N.7. —P.3553―3560.123.Godyak V.
A. and Alexandrovich B. M. Radio frequency potential of inductiveplasma immersed in a weak magnetic field // Appl. Phys. Lett. — 2004. — V.84. — N.9.— P.1468―1470.167124.Kim Y.-D., Lee Y.-K., Lee H.-C., and Chung C.-W. Spatial measurements ofelectron energy distribution and plasma parameters in a weakly magnetized inductivedischarge// Phys.
Plasmas. — 2013. — V.20. — P.023505―023505-5.125.Lee M.-H.and Chung C.-W. Observation of the inductive to helicon modetransition in a weakly magnetized solenoidal inductive discharge // Appl. Phys. Lett. —2008. — V.93. — P.151503―151503-3.126.Lee M.-H. and Chung C.-W. Plasma characteristics in a solenoidalinductive/capacitive discharge under a weak dc magnetic field // Phys. Plasmas.
— 2007.— V.14. — P.103507 ―103507-7.127.Lee M.-H. and Choi S.W. Evolution of an electron energy distribution function ina weak dc magnetic field in solenoidal inductive plasma // J. Appl. Phys. — 2008. —V.104. — P.113303―113303-7.128.Kim J.-Y., Lee H.-C., Kim Y.-D., Kim Y.-C., and Chung C.-W. Transition ofelectron kinetics in weakly magnetized inductively coupled plasmas // Phys.
Plasmas. —2013. — V. 20. — P.101612―101612-6.129.Kim S. S., Chang C. S., Yoon N. S., and Whang Ki-Woong Inductively coupledplasma heating in a weakly magnetized plasma // — Phys. Plasmas. — 1999. — V.6. —N.7. — P.2926―2935.130.Polomarov O. V., Theodosiou C.
E., Kaganovich I. D., Economou D. J., andRamamurthi B. N. Self-Consistent Modeling of Nonlocal Inductively Coupled Plasmas// IEEE transactions on plasma science. — 2006. — V.34. — N.3. — P.767―785.131.Чжао Ч. Влияние внешней цепи на закономерности энерговклада вгибридный ВЧ разряд низкого давления: диссертация на соискание ученой степеникандидата физ.-мат. наук: 01.04.08. — М.
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
