Диссертация (1097536), страница 15
Текст из файла (страница 15)
Подвижность доменной границы может быть определена припомощи выражения 45 DM 2 (cos1 cos2 )2 / 2c 2 .(3.10)Отметим, что выражения, аналогичные (3.10), были получены ранее в работах [24,59]. Используя уравнение (3.9), для вклада движения доменных границ в поперечную магнитную восприимчивость после простых преобразованийполучим:dw 0 (cos1 cos 2 )2,1 i / dw(3.11)где 0 = M / статическая магнитная восприимчивость и dw = / a частота2релаксации движения доменных границ.81Вклад в магнитную восприимчивость процесса вращения намагниченности может быть найден при помощи решения линеаризованного уравненияЛандау–Лифщица.
В общем случае магнитная восприимчивость имеет вид недиагонального тензора даже после усреднения по доменной структуре[24,63,206]. Усреднённая по доменной структуре поперечная магнитная восприимчивость rot определяется выражением [24] rot 2 4 3,1 4 1(3.12)где усреднённые компоненты магнитной восприимчивостиk(k = 1,2,3)имеют вид [63]:12k ( j)1 2( j ) 3( j ) z0 (1) 1 z0 ( 2) ,a k 2 a k 4M (1( j ) i )( j)(1( j) i )(2( j) i )( j) i ) 4M (2( j)(1 i ) i )(22,(3.13)2 4M sin j(1( j ) i )(2( j ) i ) 2,.Здесь1( j ) [ H a cos2 ( j ) H e cos j H b cos( j )] ,(3.14)2( j ) [ H a cos{2( j )} H e cos j H b cos( j )] .Поперечная магнитная проницаемость ленты определяется выражениемtr 1 4 ( dw rot ) .(3.15)Таким образом, зависимости импеданса ленты Z от внешнего магнитногополя и частоты могут быть найдены при помощи выражений (3.1), (3.7), (3.8),(3.11)(3.15).82Так как мы пренебрегли магнитостатической энергией, образование доменной структуры не может быть описано в рамках предложенной модели.
Всвязи с этим, будем предполагать, что полосовая доменная структура возникает, когда уравнение (3.7) имеет два различных решения для равновесного угланамагниченности, и процессы движения доменных границ и вращения намагниченности рассматриваются как негистерезисные. В реальных лентах процессобразования доменной структуры носит более сложный характер, и в результате наблюдаемые зависимости ГМИ проявляют гистерезис [287,292,293].Из уравнений (3.8), (3.11) и (3.13) следует, что равновесное смещение доменных границ и поперечная магнитная проницаемость существенно зависят отпараметра пиннинга .
В общем случае, величина является функцией поляанизотропии, поля сдвига и угла наклона оси анизотропии. Для упрощения будем полагать, что параметр пиннинга является константой.Зависимость импеданса от внешнего поля He , рассчитанная для двух частот при различных значениях поля сдвига Hb , показана на Рис. 3.2. При низкихчастотах основной вклад в поперечную магнитную проницаемость вносит движение доменных границ.
Хорошо известно, что в этом случае зависимость импеданса от внешнего поля имеет один максимум [48,49,265]. Если поле сдвигаравно нулю, эта зависимость является симметричной по отношению к внешнему магнитному полю (см. Рис. 3.2 (а)). При Hb 0 поле, при котором импедансимеет максимум, смещается в сторону положительных значений He, так какдиапазон магнитных полей, в котором существует доменная структура, такжесдвигается. Отметим, что предсказание модели находится в согласии с анализом спектра магнитной проницаемости, определённом из экспериментальныхзначений ГМИ [293].
Из Рис. 3.2 (а) следует, что при f = 100 кГц зависимостьимпеданса от поля является асимметричной и проявляет скачкообразное возрастание в присутствие поля сдвига. Асимметрия и величина ГМИ возрастают сувеличением поля сдвига Hb.83Рис. 3.2. Зависимость импеданса Z от внешнего поля He при различных значениях Hb:f = 100 кГц (a) и f = 10 МГц (б).
Параметры, использованные при расчётах: D = 20 мкм,16 1a = 5 мкм, = 10 с , M = 600 Гс, Ha = 1 Э, / MHa a = 0.5, = 0.1, = 0.15, = 0.45.При высоких частотах движение доменных границ затухает из-за влияниявихревых токов, и поперечная магнитная проницаемость определяется процессом вращения намагниченности. Влияние движения доменных границ на импеданс может быть существенным только в окрестности поля, где импеданс имеетминимум. При f = 10 МГц зависимость импеданса от поля имеет два максимума(Рис. 3.2 (б)). Вследствие влияния поля сдвига Hb , эта зависимость являетсяасимметричной. С увеличением Hb различие в величинах максимумов возраста-84Рис. 3.3.
Зависимость импеданса Z от внешнего поля He при различных значениях :f = 100 кГц (a) и f = 10 МГц (б). Параметры, использованные при расчётах: D = 20 мкм,16 1a = 5 мкм, = 10 с , M = 600 Гс, Ha = 1 Э, / MHa a = 0.5, Hb = 0.5 Э, = 0.1, = 0.15.ет, и значения He , при которых импеданс имеет максимумы, сдвигаются в сторону положительных значений поля.В рамках модели предполагается, что направление анизотропии в поверхностном слое может отличаться от направления поля отжига.
Соответственно,поле сдвига также отклоняется от оси ленты. Зависимость импеданса от внешнего поля показана на Рис. 3.3 для различных значений угла . Если поле сдвига направлено вдоль оси образца, максимум импеданса сдвигается в областьположительных значений поля, но зависимость Z(He ) остается симметричной85(см. Рис. 3.3). Асимметрия возникает, если поле сдвига отклоняется от продольной оси ленты, и возрастает с увеличением угла отклонения от оси образца.Выше полагалось, что эффективное поле сдвига Hb направлено противоположно полю анизотропии в поверхностном кристаллическом слое Hu , то естьвзаимодействие между фазами является антиферромагнитным. В этом случаемаксимум зависимости импеданса от поля при низких частотах возникает приположительных значениях поля, а при высоких частотах максимум импедансапри положительном значении поля больше, чем при отрицательном значенииполя.
Эти результаты согласуются с зависимостями ГМИ, наблюдавшимися вэкспериментах [291293]. Если Hb параллельно Hu (ферромагнитное взаимодействие), возникает обратная зависимость ГМИ от поля, то есть при низкихчастотах пик зависимости ГМИ возникает в области отрицательных полей[394]. Таким образом, на основании проведённого анализа можно сделать вывод, что связь между двумя фазами является антиферромагнитной.Рассчитанные зависимости импеданса находятся в качественном согласиис результатами экспериментальных исследований ГМИ в аморфных лентах,отожжённых в присутствии продольного магнитного поля [291293].
Предложенная модель позволяет описать изменения зависимости импеданса от внешнего поля с возрастанием частоты. Отметим, что рассчитанные значения импеданса при низких частотах имеют тот же порядок величины, что и в эксперименте [293]. Однако в области положительных полей величина импедансауменьшается более быстро по сравнению с экспериментом. Это расхождениеможет быть связано с пространственным распределением поля сдвига по толщине ленты, которым мы пренебрегли в рамках модели. Кроме того, в экспериментах наблюдались более высокие значения импеданса в минимуме при высоких частотах [292,293], что может быть связано с влиянием поверхностногокристаллического слоя.863.2.
Влияние поверхностных кристаллических слоёвна асимметричный гигантский магнитоимпедансаморфных лентПредложенная в предыдущем разделе модель позволяет качественно описать зависимости импеданса от частоты и внешнего магнитного поля в аморфных лентах. Однако в рамках модели не учитывается влияние поверхностныхкристаллических слоёв на асимметричный ГМИ. Кроме того, при расчёте импеданса использовалось упрощённое выражение (3.1). В данном разделе рассмотрена другая модель, учитывающая влияние поверхностных слоёв и основанная на решении уравнений Максвелла и линеаризованного уравненияЛандау–Лифшица.Рассмотрим ленту толщины D, состоящую из аморфной области и двухповерхностных кристаллических слоёв толщины d, возникающих после отжигав магнитном поле.
Переменный ток I = I0 exp(i t) течёт вдоль ленты (вдоль осиz), и внешнее постоянное магнитное поле He параллельно току. Система координат выбрана таким образом, что переменное магнитное поле, индуцированное током, параллельно оси y (см. Рис. 3.1). Так как длина и ширина лентынамного больше её толщины, пренебрегая краевыми эффектами, будем полагать, что значения полей зависят только от координаты, перпендикулярнойплоскости ленты (координаты x).В дальнейшем будем пренебрегать доменной структурой ленты и предположим, что магнитная проницаемость определяется только вращением намагниченности. Такое приближение справедливо для не слишком низких частот.При расчёте магнитной проницаемости не учитываются размагничивающие поля и вклад обменной энергии.
Для упрощения будем полагать далее, что проводимость и намагниченность насыщения в аморфной и кристаллической областях одинаковы.Так как поля зависят только от координаты, перпендикулярной плоскостиленты, уравнения Максвелла в аморфной области могут быть сведены к двум87(a)связанным дифференциальным уравнениям для поперечной hyи продольной(a)hz компонент магнитного поля [62,63]:d 2 h(ya )dx22i 02(1 1 sin 2 )h(ya ) 2i 021hz( a ) sin cos ,(3.16)d 2 hz( a ) 2i2i2(a)(1cos)h h(a ) sin cos .1z222 1 ydx00Здесь 0 = c / (2)1/2 толщина скин-слоя в немагнитном материале и 1 эффективная магнитная проницаемость аморфной области, определяемая выражением1 4M (1 i ),(1 i )(2 i ) 2(3.17)где1 [ 4M H a cos2 ( ) H b cos( ) H e sin ] ,2 [ H a cos{2( )} H b cos( ) H e sin ] .(3.18)Равновесный угол между вектором намагниченности и поперечнымнаправлением может быть найден из условия минимума свободной энергии, чтоприводит к следующему уравнению для равновесного угла:H a sin( ) cos( ) Hb sin( ) H e cos 0 .(3.19)Компоненты электрического поля в аморфной области определяютсяуравнениямиez( a ) (a)c dh y,4 dx(3.20)dhz( a ).4 dxce(ya ) Так как поле однонаправленной анизотропии Hu в поверхностных слояхвелико, будем полагать, что направление намагниченности в кристаллических88слоях не зависит от величины внешнего магнитного поля и совпадает с направлением Hu .
Тогда, уравнения для компонент магнитного и электрического полей в поверхностных слоях могут быть представлены в видеd 2h(yc )dx22i 02(1 2 sin 2 )h(yc ) 2i 022hz(c) sin cos ,(3.21)d 2hz(c ) 2i2i2(c )(1cos)h h(c) sin cos ,2z222 2 ydx00ez(c ) (c )c dh y,4 dxe(yc ) c4(3.22)dhz(c ).dxЗдесь 2 эффективная магнитная проницаемость кристаллических слоёв:2 4M ( 4M H u i ).( 4M H u i )(H u i ) 2(3.23)Вследствие симметрии задачи в дальнейшем мы будем рассматриватьтолько область ленты x > 0.
Решение уравнений (3.16) и (3.20) в аморфной области (x < D / 2 d ) имеет вид:h(ya ) A1 cos sh(k0 x) A2 sin sh(k1x) ,hz( a ) A1 sin sh(k0 x) A2 cos sh(k1x) ,ez( a ) (c / 4 ) [ A1k0 cos ch(k0 x) A2 k1 sin ch(k1 x)] ,(3.24)e(ya ) (c / 4 ) [ A1k0 sin ch(k0 x) A2 k1 cos ch(k1 x)] ,k0 (1 i) / 0 , k1 (1 i)(1 1)1 / 2 / 0 ,где A1 и A2 постоянные. В поверхностном кристаллическом слое(D / 2 d < x < D / 2) решение уравнений (3.21) и (3.22) может быть представленов виде89h (yc ) cos{B1sh(k0 x) B2ch(k0 x)} sin {B3sh(k2 x) B4ch(k2 x)} ,hz(c ) sin {B1sh(k0 x) B2ch(k0 x)} cos{B3sh(k2 x) B4ch(k2 x)} ,ez(c ) (c / 4 ) [k0 cos{B1ch(k0 x) B2sh(k0 x)} k2 sin {B3ch(k2 x) B4sh(k2 x)}] ,(3.25)e(yc ) (c / 4 ) [k0 sin {B1ch(k0 x) B2sh(k0 x)} k2 cos{B3ch(k2 x) B4sh(k2 x)}] ,k2 (1 i)( 2 1)1 / 2 / 0 .Здесь B1, B2, B3 и B4 постоянные.