Берлин Е. - Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких плёнок (1051243), страница 31
Текст из файла (страница 31)
Была также произведена модернизация шлюзовой установки плазмохимического травления производства фирмы «Алкатель» (К(3Е-ЗОО), с применением «антенны», имевшая перел собой цель осаждения нитрида кремния с высокой скоростью при улучшении параметров осаждаемой пленки. Для этого в установке на верхнем фланце рабочей камеры была смонтирована «антенна» с согласующим устройством и системой лазерного контроля толшины наносимого диэлектрика. Для питания «антенны» использовался ВЧ-генератор стандартной промышленной частоты 13,56 МГц.
Мошность генератора составляла от 100 до 1000 Вт. Применение «антенны» позволило отработать следуюшие технологии: ° Осаждение диоксида кремния в смеси моносилана с кислородом на кремниевые и сапфировые подложки при температуре процесса не выше 200'С со скоростями до 200 нм/мин. ° Осаждение с температурой подложки не выше 250'С стехиометрического и нестехиометрического нитрида кремния из смеси моносилана с азотом на полиимндный лак, нанесенный на кремниевую подложку.
° Равномерность по толщине осаждаемых слоев на подложке диаметром 150 мм была не хуже +3%. ° Показана возможность планаризации рельефа подложки при осаждении диэлектрика с одновременным травлением (за счет некоторого снижения скорости осаждения). Была выпушена мелкая серия установок плазменно-стимулированного газофазного осаждения на базе установки «Каролина РЕ-4» с лазерным контролем толшины осаждаемой пленки. В технологии применялся гексаметилдисилоксан в смеси с кислородом, что ограничило скорость осаждения диоксида кремния до 50 нм/мин из-за большого потока кислорода, необходимого для образования стехиометрического диоксида кремния в данной смеси.
Режим осаждения: ° Диаметр реактора — 390 мм. ° Диаметр антенны — порядка 190 мм. В заявке обязательно указывайте свой почтовый адрес.' Берлин Евгений Владимирович Двииин Сергей Александрович Сейдман Лев Александрович ~Р»»»», р»»« ° Предварительный вакуум — 1 мПа. ° Диаметр стола — 160 мм. ° Неравномерность толщины пленки по плошади стола — +3%, ° Рабочее давление смеси в реакторе — 0,2 Па. ° Расход кислорода — 0,1 Вт. ° Начальная температура подложек — 150'С. ° ВЧ-мощность на «антенне» при осаждении — 300 Вт.
° Смещение на подложкодержатель — не подавалось. Осаждение производилось на сапфировые заготовки, Толщина полученных слоев составляла 0,4-0,5 мкм. Слои соответствовали всем требованиям оптических покрытий из этого материала (коэффициент преломления 1,47 и прозрачность 0,99 в оптическом диапазоне). Опытная эксплуатация установок плазменно-стимулированного осаждения слоев из газовой фазы с применением «антенны» показала высокую воспроизводимость процесса по скоростям нанесения, равномерности и качеству наносимых покрытий, что делает подобный процесс перспективным для массового применения в технологиях полупроводниковых приборов и многоуровневых ГИС. Заявки на книги присылайте по адресу: 125319 Москва, а/я 594 Издательство «Техносфера» е-ва11: $гп!й!Ж!есйповрйега.гп ва(езФ!есйповрйега.гп факс: (495) 956 33 46 Подробная информация о книгах на сайте !г!!р://ииннесйповрйега.гп Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок Компьютерная верстка — Г В.
Зайцева Корректор — Е.М. Конова Дизайн книжных серий — С,Ю. Биричев Дизайн — И,А. Куколева Выпускающий редактор — М.В. Капранова Ответственный за выпуск — О.А. Казанцева Формат 60х90/16. Печать офсетная. Гарнитура Ньютон Печ.л. 11, Тираж 1000 экз. Зак.
1»з ззоь Бумага офсет 1»е1, плотность 65г/м', цветная вклейка — мелованная 115 г/м Издательство «Техносфера» Москва, Лубянский проезд, дом 27/1 Диапозитивы изготовлены 000 «Европолиграфик» Отпечатано в 000 ПФ «Полиграфист» ! 60001, г. Вологда, ул. Челюскинцев, дом 3 Рис. 6.3. Конструкторская моцель установки «Каролина Д-!2А» Рис. 6.4.
Консярук1орская молель ус|а- нояки «Каролина Д-!2 А» с открьпой качсрои. Рис. 6.5. Конструкторская моцель установки «Каролина Д. !2 А» с открьпой крышкой камеры. Рис. 6.6. Конструкторская модель установки «Кароли наД-12 Ь» с агкры- тыми дверями Рис.
6.7. Конструкторская модель установки «Каролина Д-12Б» с закрьпыми дверями. Рис. 6.8. Конструкторская модель маи<етронного источника. Рис.6.9. Конструкторская модель ионного источника. Рис.! 2а. В~ «Каролина Л Рис. Иб. Внешнии вил устаноаки «Каролинами-12бк. Рис.!5. Внешний аил >становки Каролина 15». .