Курсовая работа: Установка двустороннего экспонирования
Описание
«Основы проектирования систем автоматического управления оборудования электронных технологий »
на тему:
«УСТАНОВКА ДВУСТОРОННЕГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ»
2010
ЗАДАНИЕ
на курсовой проект по курсу «Основы проектирования систем автоматического управления оборудования электронных технологий».
Тема проекта: Установка двустороннего экспонирования
1. Проработать описание работы установки, выбрать и обосновать состав ее основных целевых функций, сервисных функций, функций коррекции цели.
2. Разработать комплексную принципиальную схему, как совокупность системы целевых механизмов, системы их энергообеспечения и системы управления, связанных материальными, энергетическими и информационными потоками.
3. Описать механический, энергетический и информационный интерфейс компонентов машины. Дать техническое задание и техническое предложение на САУ и основные элементы машины.
4. Разработать принципиальную электрическую схему элемента САУ или САУ в целом.
Содержание графической части.
- Процессная модель установки..................................................1 л.
- Комплексная принципиальная схема........................................2 л.
- Принципиальная электрическая схема....................................1 л.
Содержание расчетно-пояснительной записки.
- Введение. Описание целевого, механического и энергетического интерфейса спроектированной установки совмещения и экспонирования.
- Описание процессной модели. Выбор и обоснование целевых, сервисных функций, и функций коррекции цели.
- Техническое задание и техническое предложение на систему управления машины по приведенной в Приложении 1 форме.
- Описание комплексной принципиальной схемы ФС. Обоснование структурно-компоновочного решения, выбор и согласование уровней потоков элементов.
- Документы, сопровождающие комплексную принципиальную схему:
- перечень элементов ПЭ;
- перечень потоков и сигналов ПС;
- технические задания на основные подсистемы и узлы машины ТЗ.
- Информационный поиск датчиков и исполнительных элементов машины и ее САУ, описание целевого, механического, энергетического и информационного интерфейса этих элементов ОЭ.
- Расчет и описание принципиальной электрической схемы.
- Заключение.
Содержание
Реферат…………..……………………………………………………………..…......4
1.Введение……………………………………………………………………….…...6
2. Описание процессной модели…………………………………….……………..6
3. Выбор сервисных функций………….…………………………....……………..10
4. Выбор функций коррекции цели………….…………………………………….11
5. Описание комплексной принципиальной схемы……………………………...11
6. Техническое задание на элементы и узлы машины……………………………12
7. Расчет операционного усилителя…………………………………………… .....17
8. Расчет сопротивления оптронной развязки.…………………..……………..….18
9. Описание блока питания…………………………………………………………19
10. Описание семисегментного индикатора………………………………………19
Заключение……………………………………..………………………………….…21
Список использованных источников………………………………………..……...22
Приложения……….……………………………………………………………….…23
к курсовому проекту «Установка двухстороннего экспонирования»
Записка содержит 24 страниц, 7 рисунков, 1 таблицу.
Графические работы в объеме 4 листов выполнены на ПК с помощью программы КОМПАС v.10. Записка выполнена с использованием программного продукта Microsoft Word.
Целью данного курсового проекта является овладение навыками, методами и средствами комплексных разработок механических и электронных компонентов оборудования САУ, а также правилами и методами составления технического задания на программное обеспечение САУ.
Задачи проекта состоят в:
- распределении функций машины между различными компонентами и обоснование этих функций;
- постановке четких технических заданий перед разработчиками отдельных компонентов;
- выполнении технической документации на электронные компоненты.
В данном курсовом проекте рассмотрена система автоматизированного управления установкой двустороннего экспонирования ― оборудование для формирования скрытого изображения элементов печатных плат в слое фоторезиста при его контактном экспонировании.
Рассмотрены основные узлы САУ и проведен расчет и проектирование частей системы управления.
Проект выполнен в объеме 4 листов и расчетно-пояснительной записки. На первом листе приведена блок схема алгоритмов работы установки. На 2 листе показана принципиальная схема установки и таблица сигналов. На третьем листе проекта приведена комплексная принципиальная схема установки. На четвертом листе показана электрическая принципиальная схема микроконтроллера, ключи для управления вакуумными клапанами, ключи для управления двигателями заслонок в системе экспонирования и схема зажигания индикатора времени экспонирования.
- Введение
Экспонирование фоторезиста для формирования топологии печатных плат занимает особое место в комплексе операций микролитографии, она является одной из важнейших и наиболее сложных операций. Микро- и нанометровые размеры элементов, десятки и сотни тысяч элементов в каждом модуле, десятки и сотни модулей на каждой подложке, размеры которой превышают размеры отдельных элементов в десятки тысяч раз, - все это ставит задачу формирования таких изображений в ряд наиболее сложных проблем современной науки и техники. Эта задача еще более усложняется при второй и последующих литографиях, когда появляется необходимость совмещения топологических слоев, а неплоскостность подложек резко возрастает из-за их коробления во время многократных высокотемпературных обработок.
В производстве ПП проблема формирования скрытого изображения топологии в настоящее время стоит так же остро, как и в микротехнике. Соотношение размера элемента с рабочим полем платы примерно соответствует порядку ИС, а критические размеры топологии составляют единицы микрометров. К тому же печатные платы так же относятся к многослойным структурам, т.е. присутствует проблема совмещения ранее изготовленных слоев. Оборудование для формирования микроизображений является самостоятельным классом сложного оптико-механического оборудования. В него входят установки для изготовления различного вида шаблонов, а также установки для переноса изображений шаблонов на подложки. В данном проекте рассмотрена установка двустороннего контактного экспонирования ПП.
При контактной фотолитографии экспонирование ведется при непосредственном контакте подложки и фотошаблона. При таком методе экспонирования возникает ряд проблем, которые влияют на качество полученного изображения. Данные проблемы можно классифицировать как дефекты изображения, которые могут привести к браку всего изделия, и погрешность изображения топологического рисунка, возникающая в результате оптических явлений.
В настоящее время к установкам экспонирования предъявляются высокие требования. Они должны быть автоматическими, обладать высокой точностью и производительностью, обладать универсальностью.
В соответствии с этим проектируемая установка должна обладать следующими характеристиками:
- высокое разрешение
- высокая производительность
- низкая стоимость процесса
- универсальность
- возможность выпуска плат с большим рабочим полем
- высокое быстродействие
- удобство переналадки
- возможность получения элементов размерами 20…50 мкм
Характеристики курсовой работы
Список файлов
- Установка двустороннего экспонирования
- Презентация.ppt 425 Kb
- Прочти меня.txt 141 b
- РПЗ.doc 3,5 Mb
- Чертёж (1).cdw 385,29 Kb
- Чертёж (2).cdw 116,57 Kb
- Чертёж (3).cdw 136,49 Kb
- Чертёж (4).cdw 125,86 Kb
Начать зарабатывать