Курсовой проект

“С И С Т Е М Ы А В Т О М А Т И Ч Е С К О Г О

У П Р А В Л Е Н И Я О Б О Р У Д О В А Н И Е М”

ТЕМА ПРОЕКТА:

Установка нанесения тонких пленок в вакууме методом

электронно-лучевого испарения

2002 г.

Оглавление.

Оглавление.

Введение.

Описание установки

Описание процессной модели.

Комплексная принципиальная схема.

Техническое задание на элементы и узлы машины.

Блок нормализации сигналов.

Блок ключей.

Блок питания на 5В.

Блок питания на 24В.

Расчет блока нормализации сигналов.

Описание автоматизированной работы.

Список литературы.

Введение.

Целью данного курсового проекта является разработка системы автоматизированного управления экспериментальной вакуумной установки Для нанесения титанового покрытия. Необходимо автоматизировать процесс нанесения покрытия на изделия.

Курсовой проект выполнен на четырех листах формата А3 и расчетно-пояснительной записки. На первом листе приведены алгоритмы автоматизированных процессов. На втором и третьем листах – комплексно- принципиальная схема установки: механика, вакуумная система, газовая система, энергообеспечение, системы автоматизированного обеспечения. На четвертом листе - принципиальная электрическая схема блока нормализации сигналов. В расчетно-пояснительной записке приведены необходимые пояснения и расчеты, отражены принципы построения СУ установки, даны описания листов проекта.

Описание установки.

Установка является экспериментальным стендом по нанесению титагового покрытия в вакууме методом электронно-лучевого испарения. Длительность цикла обработки включает лишь время осаждения пленки и перемещения изделия из позиции в позицию.

Техническая характеристика УВН:

1. Предельное остаточное давление в рабочей камере: не более ;

2. Число рабочих позиций: 1;

3. Рабочее напряжение электронно-лучевой системы распыления: 400…500 В;

4. Расход холодной воды при давлении 0,3…0,4 МПа: не менее 1000 л/час;

5. Максимальная потребляемая мощность в установившемся режиме: 27000 ВА;

Установка снабжена планетарной системой вращения держателей заготовок. Установка состоит из вакуумной камеры 1 (рис. 2), внутри которой на карусели 4 закреплены заготовки.

Загрузка и закрепление образцов производится в ручную оператором. Нанесение ведется электронно-лучевым способом при помощи испарителя.

Откачная система состоит из двух насосов: форвакуумного и высоко вакуумного. Форвакуумный механический насос ведет откачку до давления в 1 Па. Дальнейшая откачка осуществляется при помощи высоковакуумног криосорбционного насоса.

Описание процессной модели.

В данном курсовом проекте разрабатывается процессная модель автоматизированного управления для экспериментальной установки электронно-лучевого нанесения тонких пленок в вакууме методом электронно-лучевого испарения см. лист. “Процессная модель”.

Деление технологии на процессы.

В работе установки можно выделить следующие основные процессы:

1. Загрузка;

2. Ввод исходных данных;

3. Процесс откачки;

4. Процесс напыления;

3.1. Включение испарителя;