Для студентов МГТУ им. Н.Э.Баумана по предмету Основы изобретательстваФотошаблон для фотолитографииФотошаблон для фотолитографии
2017-12-222017-12-22СтудИзба
ДЗ: Фотошаблон для фотолитографии
Описание
Фотошаблон для фотолитографии
Область техники, к которой относится изобретение: Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к устройствам для фотолитографических процессов, и может быть использовано при изготовлении микросхем.
МПК: H01L21/027 - образование маски на полупроводниковой подложке для дальнейшей фотолитографической обработки, не отнесенное к рубрикам H01L 21/18 или H01L 21/34
Формула изобретения
Область техники, к которой относится изобретение: Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к устройствам для фотолитографических процессов, и может быть использовано при изготовлении микросхем.
МПК: H01L21/027 - образование маски на полупроводниковой подложке для дальнейшей фотолитографической обработки, не отнесенное к рубрикам H01L 21/18 или H01L 21/34
Формула изобретения
Характеристики домашнего задания
Предмет
Учебное заведение
Просмотров
136
Покупок
0
Качество
Идеальное компьютерное
Размер
67,08 Kb
Список файлов
- Фотошаблон для фотолитографии.docx 70,1 Kb
Хочешь зарабатывать на СтудИзбе больше 10к рублей в месяц? Научу бесплатно!
Начать зарабатывать
Начать зарабатывать