НИР: Анодное растворение в технологии производства печатных плат

Инженерный практикум. Отчёт: «Анодное растворение в технологии производства печатных плат»

Содержание

Вводная часть ........................................................................................... - 3
2. Технология травления печатных плат. .................................................... - 5
3. Основные методы травления. .................................................................. - 7
3.1. Химическое травление ................................................................... - 8
3.2. Анодное растворение...................................................................... - 9
3.3. Ионное травление ......................................................................... - 10
4. Актуальность анодного травления. ..................................................... - 10
6. Практическая часть. ............................................................................ - 12
Выводы ...................................................................................................... - 20
Заключение ................................................................................................ - 21
Список литературы. ................................................................................... - 22

Введение

Основной технологический процесс в производстве печатных плат – фотолитография.
Фотолитография - это технологический процесс, применяющийся при микрообработке различных плоских заготовок методами локального удаления материала (травление, абразивная обработка) или локального нанесения материала (напыление, гальваника, химическое осаждение).
Суть фотолитографии состоит в следующем. На поверхность обрабатываемой заготовки наносится тонкий слой фоточувствительного кислотостойкого полимера - фоторезиста, в котором формируются сквозные рельефы («окна») заданных размеров и формы, для чего слой фоторезиста экспонируется через фотошаблон, а затем проявляется.
Фотошаблон, содержащий требуемую топологию «окон», освещается равномерным потоком ультрафиолетового излучения, его изображение непосредственно или через оптическую систему передается в фоторезист. При облучении через прозрачные «окна» фотошаблона облучаемые участки фоторезиста необратимо меняют свои химические свойства, формируется скрытое изображение рисунка фотошаблона.
В результате проявления скрытое изображение в фоторезисте превращается в рельеф.