Отзыв официального оппонента 2 (Исследование взаимодействия низкотемпературной плазмы с неоднородной поверхностью электродов в газоразрядных приборах)

отзыв официального оппонента на диссертацию Йе Наинг Туна «Исследование взаимодействия низкотемпературной плазмы с неоднородной поверхностью электродов в газоразрядных приборах», представленную на соискание ученой степени кандидата физико- математических наук по специальности 01.04.07 — Физика конденсированного состояния. Одним из важных направлений в рамках фундаментальной научной ~роб~е~~ физики конденсированного Сос~о~ни~, с~язв~~ой с исследо~ан~е~ м~ха~измо~ ~заи~одейст~ия двух Состоян~й вещества — плазмы и твердого тела, является изучение взаимодействия низкотемпературной газоразрядной плазмы с поверхностью электродов.

При этом в плазме, в отличие от ситуации, когда твердое тело бомбардируется пучком ионов в вакууме„ энергии ионов являются функциями характеристик приэлектродного слоя разряда, на которые оказывают существенное влияние химический состав и структура приповерхностного слоя электрода, Поэтому для создания более долговечных электродов требуется знание физики процессов, протекающих при взаимодействии их эмиссионной поверхности с плазмой газового разряда. Изучению данного вопроса посвящено большое количество работ, однако в них недостаточно исследовано влияние рельефа поверхности и присугствия на ней диэлектрических включений на Особенности взаимодействия твердое тело — плазма.

Этим и определяется актуальносп* темы диссертационной работы Йе Наинг туна Научная новизна работы состоит в том, что в ней впервые разработаны: е модель катодного слоя тлеющего разряда при наличии на катоде тонкой диэлектрической пленки и исследованО влияние полевой электрОнной эмиссии из подложки катода в пленку на характеристики разряда; ° модель, описывающей разогрева катода„поверхность которого покрыта диэлектрической пленкой, и изучено влияние пленки на переход тлеющего разряда в дуговой ~ найдены энергетические спектры бомбардирующих катод частиц при наличии на нем периодического рельефа малой амплитуды и диэлектрическоЙ пленки переменной толщинь|, а также Оценено Воздействие этих факторов нз степень неоднороднОсти еГО распыления В разряде. Практическая значимость диссертации обусловлена тем, что ее результаты могут быть использованы для выбора оптимальной структуры эмиссионной поверхности, снижающей интенсивность ее распыления, при создании более долговечных электродов газорйзрядных приборов.

В качестве основных можно отметить следующие результаты работы, напряжения рйзрядй н, соответственно, к уменьшению э~ергий бомбардирующих катод частиц, обусловленному паленой эмиссией электронов из металлической подложки катода под действием возникающего В ПЛЕНКЕ СИЛЬНОГО ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПОЛЯ, Рассчитано из~енение характеристик кйтодного слоя рйзрядй и температуры поверхности катОдз В течение Времени Горения тлеюшеГО разряда до его перехода В дуговой.

Установлено, что при наличии на катоде диэлектрической пленки, Вследствие пОлеВОЙ электронной эмиссии из подложки в пленку и последующего выхода части электронов из нее, увеличивается разрядный ток и интенсивность нагрева катода, что обеспечивает более быстрое возникновение дугового разряда в приборе. Найдены распределения плотностей потоков ионов и быстрых атомов, а также эффективного коэффициента распыления катода и плотности потока распыленных атомов вдоль искривленной поверхности поверхности метйллнческого катода, Покйзйно, что эффективный коэффициент распыления имеет минимальную Величину нз Вершинах рельефа из-зз преимущественноЙ фокусировки на них низкоэнерГетичных НОИОВ, Плотность же потока атомов, распь1ленных с поверхности катода, достигаег на вершинах рельефа максимального значения вследствие большей плотности потока бомбардируюших их частиц. 2 Изучены закономсрнОсти процесса распыления В .Глсющсм разряде Катода с ТОНКОЙ диэлектрической пленкОЙ переменной толшины н установлено, что при достаточно малоЙ неравномсрности тОлшнны пленки распыленных ат~мов с них имеет наибольшую величину, что приводит к увеличению неравномерности толшины пленки и к Образованию в ней пор.

Все положения и выводы диссертации достаточно обоснованы, а научной литературе данными экспериментальных и теоретических исслсдОВаний„что даст Основание сделать ВыВод Об их достовс1эности, По диссертации можно сделать следующие замечания: 1, В модель катоднОГО слоя разряда учитывшощую наличие плснку электронов, которые достигают Внсшнси Границы пленки и, прсодолсВая потенциальный барьер, Выходят В разряд, увеличиВВЯ эффективный коэффициент нонно-элекчронной эмиссии катода. В диссертации отмечается, что согласно литературным источникам при малой толшине пленки порядка 10 нанометров эта Величина растет с увеличением величины от толщины, но не обоснован выбор именно такой зависимости.

2. В работе используется формула Фаулера-Нордгейма для плотности тока полевой эмиссии из пОдлОжки в пленку. НО первоначально эта формула электронов из металла В диэлсктрик. Однако эти замечания не влияют на Обшую положитсльную Оценку работы. ЗВЯВлсннаЯ цель работы достиГнута, поставленные задачи решеньь Основные результаты Опубликованы в авторитетных физических журналах и прошли апробацию на конференциях международного и всероссийского сй ОснОВЯОФ содержание, ДВВВЯ обп~укз оиейку диссертзнионной работе Ис НВИНГ Ч'унз, необходимо Отмстить, чтО Онз ЯВПЯется заВершенной нзучио- кВзлификзпйоннОЙ рзбОТОЙ, 6 котороЙ ре$пснз ВзжнзЯ для физики ВззимодсйстВня ГззорззряднОЙ плззмм с пОВсрхностью т6ердОГО тела и ряда тсхничсскйх приложений задача исслсдОВзния Влияния наличия нз кзтОдс тОнкОЙ диэлектрической пленки и поасрхностнОГО рельефа нз характеристики тлскййсГО разряда и распмлеййе катода. Учй*ыазя зто, можйо Одела*ь Вмяод, что дисссртзнионнзя работа Ис ИЗНИГ Туна удоилетВоряет требоВзниям «Положения о присуждении ученмх степеней» ВАК, з сб ВВтор ззслужйВзет прйсуждеййя учейой степсйй кандидата физико-математических наук по спейизльнОсти 01.04.07 — Физика конденсироВанноГо состояния.

КЗНДИДЗТ ТСХИИЧССКНХ НЗУК, ДОПСНТ КафСДРЫ фИЗИЧССКНХ проблем матсризлоисдснйя ИзнионзльнОГО исследоиательскоГО ядерноГо униВсрситстз «МИФИ» .