Отзыв ведущей организации (Исследование взаимодействия низкотемпературной плазмы с неоднородной поверхностью электродов в газоразрядных приборах)
Описание файла
Файл "Отзыв ведущей организации" внутри архива находится в следующих папках: Исследование взаимодействия низкотемпературной плазмы с неоднородной поверхностью электродов в газоразрядных приборах, Документы. PDF-файл из архива "Исследование взаимодействия низкотемпературной плазмы с неоднородной поверхностью электродов в газоразрядных приборах", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "физико-математические науки" из Аспирантура и докторантура, которые можно найти в файловом архиве МГТУ им. Н.Э.Баумана. Не смотря на прямую связь этого архива с МГТУ им. Н.Э.Баумана, его также можно найти и в других разделах. Архив можно найти в разделе "остальное", в предмете "диссертации и авторефераты" в общих файлах, а ещё этот архив представляет собой кандидатскую диссертацию, поэтому ещё представлен в разделе всех диссертаций на соискание учёной степени кандидата физико-математических наук.
Просмотр PDF-файла онлайн
Текст из PDF
(Фгьну чини ими) ир, афин Л5654.. ммвб. ю ч. ииаж»жаа ц Фаее, ж~ж": и5ыд, ", мме~а ул. а гыролюмммчесвж 1! тел,.~фас ~4и~7%~-49-Фз. юьх ."Ую496.82-и, е-ма~~. ~~~~й)жуж~ю, юуа~~фимю. жмайи~ юекппжггь 017 В ИЛИУМ4М~5. ~МЛ" Я 7З, И, дало 4~ИЛУХ ОЬ7МВ 45376ддд У"ГВЕРЖДАЮ Директор ФГБНУ «Научноисследовательский институт перспективных материалов и технологий», к.т.н. С.Ю. Шахбазов 2015 г. ОТЗЫВ ведущей организации ФГБНУ «Научно-исследовательский институт перспективных материалов и технологий» на диссертацию Йе Наинг Туна «Исследование взаимодействия низкотемпературной плазмы с неоднородной поверхностью электродов в газоразрядных приборах», представленную на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук по специальности 01.04.07 — физика конденсированного состояния.
А альность аботьь Диссертационная работа Йе Наинг Туна посвящена решению одной из фундаментальных задач физики конденсированного состояния — исследованию взаимодействия заряженных частиц с твердым телом в низкотемпературной плазме. В отличие от случая воздействия на поверхность твердого тела пучком заряженных частиц В Вакууме, в плазме характеристики бомбардир~ющих ее потоков частиц зависят от геометрических и эмиссионных свойств этой поверхности, т. е. процессы в приповерхностных слоях твердого тела и плазмы ЯвлЯются ВзаимосвЯзанными.
В существующих работах, посвященных изучению данного вопроса, обычно предполагается, что тВердое телО предстаВлЯет собой металл, имеющий Гладкую поВерхность. Однако это далеко не всегда справедливо, например, для электродов газоразрядных приборов„ долговечность которых в значительноЙ степени определяется интенсивностью их распыления в разряде. Поэтому тема диссертации Йе Наинг Туна„посвященной исследованию влияния наличия на катоде газоразрядного прибора диэлектрических пленок и поверхностного рельефа на особенности его взаимодействия с плазмой разряда, является до~таточно актуальноЙ, На чная новизна результатов работы не вызывает сомнений, Автором впервые разработан ряд математических М~де~ей взаимосвязанных физических процессов, протекающих на поверхности катОда и В катоднОМ слое тлеющеГО разряда, н В частности: стационарная модель катодного слоя тлеющего разряда при наличии на катоде тонкой диэлектрической пленки - нестационарная модель, описывающая динамику нагрева катода, поверхность которого покрыта диэлектрической пленкой, - модель катодного слоя тлеющего разряда при наличии на ~а~~д~ тонкой диэлектрической пленки переменной толщины.
С их использованием получены следующие новые результаты, предстаВляющие значительный интерес для Физики взаимодейстВия Газоразрядной плазмы с поверхностью твердого тела: - пОказанО, чтО пОлеВая эмиссия из металлическоЙ пОдложки катода в поверхностную диэлектрическую пленку может приводить к заметному снижению катОднОГО падения напряжения разряда, сОпроВОждающемуся уменьшением энергий бомбардирующих катод частиц н интенсивности его распыления В разряде. изучено вли~н~~ диэлектрической п~~~~~ на разогрев катода в разряде и установлено, что нз-за увеличения эффективного коэффициента вторичной электронной эмиссии катода, обусловленного наличием пленки„ и связаннОгО с этим увеличения плОтнОсти разрядного тОка происхОдит более быстрый переход разряда в дуговую форму.
- установлено, что эффективный коэффициент распыления катода с диэлектрической пленкой переменной толщины принимает на участках с наименьшей толщиной пленки минимальные значения в результате того, что на них преимущественно фокусируются ионы с малыми энергиями; поток же распыленных атомов с участков пленки с ее наименьшей толщиной имеет наибольшую величину вследствие большей плотности бомбардирующего их ионного потока, что ДОЛЖНО приводить увеличению нераВномерности толщины пленки В прОцессе ее распыления н к образованию В ней пор, Остове ность результатоВ рабОты пОдтВерждается тем, что Они получены на основе классических уравнений физики с использованием апробированных численных а~~оритмов, а *акже их Согла~и~~ известными экспериментальными результатами.
Значимость ез льтатов иссе та ин ла на ки н п Оизво ства определяется тем, что они позволяют лучше понять процессы, определяющие взаимодействие плазмы с катодом газоразрядного прибора в случае, когда на ней имеется поверхностный рельеф и оксидные пленки. ПОлученные В работе результаты Дают Возможность: - оптимизировать процесс нагрева катода в тлеющем разряде с целью ускорения его перехода В дуговую форму в приборах дугового разряда. - изучить влияние неоднородности рабочей поверхности катода на характеристики катодного слоя разряда, определяющие интенсивность ее распыления; Выбрать оптимальный рельеф поверхности катода, обеспечивающий снижение скорости его распыления в разряде; определить степень неоднородности поверхностной оксидной пленки, обеспечиваю1цую предотвращение возрастания ее пористости в течение Службы кажда.
Результаты работы могут быть использованы в организациях, зани~ающих~я ~сследо~~~~ем ~за~мод~йст~~я твердого тела с плазмой ~Московский государственный университет, Московский государственный технический университет имени Н.Э, Баумана, Московский энергетический институт, Московский инженерно-физический институт, Рязанский государственный радиотехнический университет). Замечании по иссе та нонной аботе. 1. При моделировании эмиссионных свойств катода с тонкой диэлектрической пленкой на поверхности в диссертации учитывается только один механизм эмиссии электронов нз металлической подложки катода В диэлектрическую пленку - туннелирование через поверхностный барьер, для которого плотность тока описывается формулой ФаулераНордгейма.
В то же время существуют и другие механизмы этого процесса, такие как надбарьерная эмиссия Шоттки, механизм Пула- Френкеля и др, Однако обоснование выбора именно этого механизма в качестве ОсновнОГО В работе не приводится. 2. При изучении влияния поверхностного рельефа катода на особенности его взаимодействия с разрядом рассмотрен лишь случай, когда рельеф является периодическим и имеет достаточно малую амплитуду, Реальный же рельеф рабочей поверхности катода обычно является более сложным. Поэтому было бы интересно провести аналогичное исследование для случая наличия рельефа более сложной формы и Оценить рОль этОГО фактора В распылении катода.
Однако, отмеченные недостатки носят частный характер и не влияют на общую положительную оценку работы. .