Для студентов МГТУ им. Н.Э.Баумана по предмету Проектирование нанотехнологического оборудования (ПНТО) (МТ-11)Установка для формирования покрытий WSi методом магнетронного распыления из двух источниковУстановка для формирования покрытий WSi методом магнетронного распыления из двух источников
5,0051
2017-12-252017-12-25СтудИзба
Курсовая работа: Установка для формирования покрытий WSi методом магнетронного распыления из двух источников
Описание
Описание файла отсутствует
Характеристики курсовой работы
Учебное заведение
МГТУ им. Н.Э.БауманаПросмотров
120
Размер
6,91 Mb
Список файлов
Установка для формирования покрытий WSi методом магнетронного распыления из двух источников
1.cdw
1.pdf
2.cdw
2.pdf
3.cdw
3.pdf
4_1.cdw
4_1.pdf
4_2.cdw
4_2.pdf
4_3.cdw
4_3.pdf
4_4.cdw
4_4.pdf
5.cdw
5.pdf
16T872.443292.000 СБ.xls
Пояснительная записка.docx
Презентация.pptx
Спецификация.cdw
Спецификация.pdf
![Картинка-подпись](https://s.studizba.com/z.php?f=/uploads/fotos/podpt_2_43798.png&w=1632&h=400&t=1")
Зарабатывай на студизбе! Просто выкладывай то, что так и так делаешь для своей учёбы: ДЗ, шпаргалки, решённые задачи и всё, что тебе пригодилось.
Начать зарабатывать
Начать зарабатывать
zzyxel
25 декабря 2017 в 14:08
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
