Исследование процессов в плазме высокочастотных емкостных разрядов низкого давления, возбуждаемых на одной и двух частотах (1103208), страница 5
Текст из файла (страница 5)
—Aug. Vol. 78, no. 2. P. 026404.A5. Rakhimova T. V., Braginsky O. V., Klopovskiy K. S. et al. Experimental and TheoreticalStudies of Radical Production in RF CCP Discharge at 81-MHz Frequency in Ar/CF4 andAr/CHF3 Mixtures // IEEE Transactions on Plasma Science. 2009.
Vol. 37. Pp. 1683–1696.A6. Voloshin D., Proshina O., Rakhimova T. Dynamic effects in dual-frequency capacitivelycoupled discharges // Journal of Physics: Conference Series. 2010. Vol. 207, no. 1. P. 012026.A7. Proshina O. V., Rakhimova T. V., Rakhimov A. T., Voloshin D. G. Two modes of capacitivelycoupled rf discharge in CF4 // Plasma Sources Science and Technology. 2010. Vol.
19, no. 6.P. 065013.A8. Волошин Д. Г., Клоповский К. С., Попов Н. А., Рахимова Т. В. Моделирование21газофазной кинетики CF4:CHF3:O2 смесей // IV Международный симпозиум потеоретической и прикладной плазмохимии (2005 г.) Сборник трудов. 2005. Т. 1.A9. Волошин Д.
Г., Иванов В. В., Ковалев А. С. и др. Теоретическое изучение функциираспределения ионов по энергии в двухчастотных емкостных разрядах // Физиканизкотемпературной плазмы – 2007. Материалы Всероссийской (с международнымучастием) конференции. 2007. Т. 2. С. 74–79.A10. Волошин Д. Г., Олеванов М. А., Рахимова Т.
В. Аналитический расчет функциираспределения ионов по энергии в двухчастотном емкостном разряде // Физиканизкотемпературной плазмы – 2007. Материалы Всероссийской (с международнымучастием) конференции. 2007. Т. 2. С. 143–148.A11. Волошин Д. Г., Брагинский О. В., Васильева А. Н. и др. Экспериментальное изучениедвухчастотногоразрядаваргонеприразличныхдавлениях//Физиканизкотемпературной плазмы – 2007. Материалы Всероссийской (с международнымучастием) конференции. 2007. Т. 2.
С. 149–152.A12. Voloshin D. G., Ivanov V. V., Kovalev A. S. et al. Theoretical study of ion energy distributionfunction in dual frequency rf discharges // Proceedings of the XXVIII InternationalConference on Phenomena in Ionized Gases. P. 5P09–15.A13. Voloshin D. G., Olevanov M. A., Rakhimova T. V. Analytical calculation of ion energydistribution function in dual frequency RF discharges // Proceedings of the XXVIIIInternational Conference on Phenomena in Ionized Gases.
P. 5P09–16.A14. Voloshin D. G., Braginsky O. V., Kovalev A. S. et al. Evolution of electron temperature anddensity distributions in the interelectrode gap of DF CCP discharge during the rf period //Proceedings of the XXVIII International Conference on Phenomena in Ionized Gases. P.5P09–26.A15. Voloshin D. G., Braginsky O. V., Kovalev A. S.
et al. Experimental study of dual frequencyRF discharges in argon for different gas pressures // Proceedings of the XXVIII InternationalConference on Phenomena in Ionized Gases. P. 5P09–21.A16. Braginsky O. V., Klopovskiy K., Kovalev A. et al. Radical production in RF CCP discharge at81 MHz frequency in Ar/CF4 and Ar/CHF3 mixtures. Theory and experiment // Proceedingsof the 19th International Symposium on Plasma Chemistry.
P. 2.2.39.A17. Braginsky O. V., Kovalev A. S., Lopaev D. V. et al. Interaction of О and Н Atoms withlow-k SiOCH films pretreated in He plasma // Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2009. Vol. 1156.Pp. 1156–D01–06.A18. Волошин Д. Г. Создание самосогласованного набора сечений рассеяния электронов намолекуле CHF3 // Международная конференция студентов, аспирантов и молодых22ученых по фундаментальным наукам «Ломоносов-2005» секция «Физика» сборниктезисов.
2005. Т. 1.A19. Proshina O., Braginsky O., Kovalev A. et al. Experimental and Theoretical Study of Ion EnergyDistribution in SF and DF CCP discharges // 59th Annual Gaseous Electronics Conference.2006. P. SRP1.00018.A20. Proshina O., Rakhimova T., Rakhimov A., Voloshin D. Two modes of ccp rf discharge inCF4 // 63th Annual Gaseous Electronics Conference. 2010.
P. CTP.00143.A21. Voloshin D., Braginsky O., Kovalev A. et al. Experimental and theoretical study of dynamiceffects in low-frequency capacitively coupled discharges // 63th Annual Gaseous ElectronicsConference. 2010. P. CTP.00150.A22.ВолошинД.Г.Особенностиплазмыдвухчастотныхемкостныхразрядов,используемых в технологических процессах микроэлектроники // XIII Школамолодых ученых «Актуальные проблемы физики». Сборник трудов.
С. 99.Цитированная литература1. Brake M. L., Pender J., Fournier J. // Phys. Plasmas. 1999. Vol. 6. P. 2307.2. Lieberman M. A., Lichtenberg A. J. Principles of Plasma Discharges and Material Processing.New York: Wiley, 1994.3. Ishihara K., Shimada T., Yagisawa T., Makabe T. // Plasma Physics and Controlled Fusion.2006. Vol. 48, no.
12B. P. B99.4. Rakhimova T. V., Braginsky O. V., Ivanov V. V. et al. // IEEE Trans. Plasma Sci. 2006. Vol.34. Pp. 867–877.5. Phelps A. V., Petrovic Z. L. // Plasma Sources Science and Technology. 1999. Vol. 8, no. 3. P.R21.6. Бронштейн И. M., Фрайман Б. С. Вторичная электронная эмиссия. Москва, 1969.7. Morgan W. L., Winstead C., McKoy V. // Journal of Applied Physics. 2001.
Vol. 90, no. 4. Pp.2009–2016.8. Kushner M. J., Zhang D. // Journal of Applied Physics. 2000. Vol. 88, no. 6. Pp. 3231–3234.23Напечатано с готового оригинал-макетаИздательство ООО “МАКС Пресс”Лицензия ИД N 00510 от 01.12.99 г.Подписано в печать 18.03.2011 г.Формат 60×90 1/16. Усл.печ.л.
1,0. Тираж 110 экз. Заказ 113.Тел. 939-3890. Тел./Факс 939-3891.119992, ГСП-2, Москва, Ленинские горы, МГУ им. М.В. Ломоносова,2-й учебный корпус, 627 к.24.
![](https://s.studizba.com/z.php?f=/templates/si/i/noavatar.png&w=100&h=100&t=1"){kind=avatar}
