Lektsia_4_Plazmennye_pokrytia (1074579), страница 2

Просмтор этого файла доступен только зарегистрированным пользователям. Но у нас супер быстрая регистрация: достаточно только электронной почты!

Текст из файла (страница 2)

Рисунок 4. Принципиальная электрическая схема источника тока ВПН-630 (а) и сравнительные ВАХ источников тока ИПН 160/600 (б), ИПН-301 (в) и ВПН-630 (г) (штриховые линии — ВАХ дуги при максимальном напряжении ее горения): 1—3 — Uд равно 130, 120 и 70 В соответственно.

Функционирование плазменной установки невозможно без принудительного охлаждения проточной водой плазмотрона и источника электрического тока. Эффективность охлаждения плазмотрона и источника тока определяет ресурс плазменной установки. Вода, применяемая для охлаждения, должна быть очищена от примесей. Преимущественно используют дистиллированную воду. Целесообразно для охлаждения плазменной установки применять автономную систему замкнутого цикла.

Расход воды через плазмотрон и источник тока составляет 15—30 дм3/мин. Отбор теплоты от возвратной воды можно осуществлять фреоновым хладагрегатом или радиаторным теплообменником, омываемым проточной водой из магистральной системы водоснабжения.

Р ис. 5. Структурная схема водяного охлаждения плазменной установки УПУ: 1 — водяной насос; 2 — плазмотрон; 3 — источник электрического тока ИПН 160/600; 4 — резервуар с водой; 5 — холодильный агрегат УВ-10.

Промышленность выпускает специальный холодильный агрегат УВ-10.

Применение данного оборудования для охлаждения плазменной установки обеспечивает снижение температуры охлаждающей воды в емкости холодильного агрегата до 2 °C.

Установка плазменного напыления может также охлаждаться холодильный агрегат МХУ-8С.

Параметры водяного охлаждения плазменной установки.

К основным параметрам системы водяного охлаждения плазменной установки относятся:

• производительность по расходу воды 15—30 дм3/мин;

• мгновенное срабатывание системы защиты электропитания плазменной установки в случаях отказов в системе водоснабжения путем релейной защиты;

• стабильность и регулируемость рабочего давления воды в системе водоснабжения при наличии контрольных манометров;

• невысокая стоимость комплектующих;

• несложный и недорогой ремонт в случаях отказа в работе системы водоснабжения.

Система газопитания плазменной установки.

Газопитание плазменной установки осуществляется как от единичных баллонов, так и баллонных рамп. В качестве рабочих газов (плазмообразующих, транспортирующих) применяют аргон, азот, водород и др.

При небольших объемах плазменного напыления применяют сжатые газы в баллонах объемом 40 л под избыточным давлением 15 МПа.

При больших объемах работ плазменного напыления применяют централизованное питание установок жидким аргоном и азотом. Жидкий аргон/азот испаряют газофикатором из емкости, предназначенной для транспортировки этих газов. Образующийся газ по магистральному газопроводу поступает в компрессор и далее в разделительный газопровод. В табл. 6 приведены характеристики рабочих газов для плазменных установок.

В процессе плазменного напыления покрытия используются комбинации указанных плазмообразующих газов в различных пропорциях.

Характеристики

Список файлов лекций