Для студентов МГТУ им. Н.Э.Баумана по предмету Дипломы и ВКРИсследование технологических режимов формирования металлизации в технологии полевых транзисторовИсследование технологических режимов формирования металлизации в технологии полевых транзисторов
2017-12-212017-12-21СтудИзба
ВКР: Исследование технологических режимов формирования металлизации в технологии полевых транзисторов
Описание
Описание файла отсутствует
Характеристики ВКР
Предмет
Учебное заведение
Просмотров
160
Покупок
0
Размер
35,38 Mb
Список файлов
- Исследование технологических режимов формирования металлизации в технологии полевых транзисторов
- 1 Транзистор.jpg 4,64 Mb
- 2 Технология.jpg 3,47 Mb
- 3 Сравнительный анализ методов металлизации.jpg 4,73 Mb
- 4 Чистая зона.jpg 5,69 Mb
- 5 Общий вид установки.jpg 2,76 Mb
- 6 Схема работы установки.jpg 2,49 Mb
- 7 Механизм планетарный.pdf 84,08 Kb
- 8 Экспериментальные данные.jpg 5,16 Mb
- 9 Экспериментальные данные 2.jpg 4,44 Mb
- Thumbs.db 42 Kb
- АнтиплагиатМ.doc 39 Kb
- Презентация.pptx 6,52 Mb
- РПЗ ВКРМ Рубцов.docx 5,73 Mb
- Рецензия ВКРМ Рубцов_Исправл.doc 27,5 Kb
- Речь на диплом.docx 24,98 Kb
Хочешь зарабатывать на СтудИзбе больше 10к рублей в месяц? Научу бесплатно!
Начать зарабатывать
Начать зарабатывать