Для студентов МГТУ им. Н.Э.Баумана по предмету Проектирование нанотехнологического оборудования (ПНТО) (МТ-11)Установка для формирования покрытий WSi методом магнетронного распыления из двух источниковУстановка для формирования покрытий WSi методом магнетронного распыления из двух источников
2017-12-252017-12-25СтудИзба
Курсовая работа: Установка для формирования покрытий WSi методом магнетронного распыления из двух источников
Описание
Описание файла отсутствует
Характеристики курсовой работы
Учебное заведение
Просмотров
120
Покупок
1
Размер
6,91 Mb
Список файлов
- Установка для формирования покрытий WSi методом магнетронного распыления из двух источников
- 1.cdw 58,96 Kb
- 1.pdf 102,84 Kb
- 16T872.443292.000 СБ.xls 64 Kb
- 2.cdw 56,02 Kb
- 2.pdf 39,73 Kb
- 3.cdw 312,33 Kb
- 3.pdf 233,89 Kb
- 4_1.cdw 51,89 Kb
- 4_1.pdf 90,35 Kb
- 4_2.cdw 53,51 Kb
- 4_2.pdf 96,13 Kb
- 4_3.cdw 49,16 Kb
- 4_3.pdf 80,69 Kb
- 4_4.cdw 52,13 Kb
- 4_4.pdf 93,38 Kb
- 5.cdw 381,88 Kb
- 5.pdf 194,11 Kb
- Пояснительная записка.docx 2,19 Mb
- Презентация.pptx 4,18 Mb
- Спецификация.cdw 194,33 Kb
- Спецификация.pdf 28,52 Kb
Хочешь зарабатывать на СтудИзбе больше 10к рублей в месяц? Научу бесплатно!
Начать зарабатывать
Начать зарабатывать