2-333-1399893875-14.-principialnaya-shema-processa-ionnoy-implantacii-naznachenie-i-oblasti-primeneniya (Принципиальная схема процесса ионной имплантации, назначение и области)
Описание файла
PDF-файл из архива "Принципиальная схема процесса ионной имплантации, назначение и области", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "специальные предметы" из , которые можно найти в файловом архиве . Не смотря на прямую связь этого архива с , его также можно найти и в других разделах. Архив можно найти в разделе "остальное", в предмете "специальные предметы" в общих файлах.
Просмотр PDF-файла онлайн
Текст из PDF
14. Принципиальная схема процесса ионной имплантации, назначение и областиприменения.Ионно-лучевая обработка применяется для формирования микрорельефа, очистки,полировки и активации поверхностей, нанесения тонких пленок в вакууме.Уникальная возможность ионной имплантации состоит в легировании материаловатомами, которые могут получать достаточно высокую энергию от ускоренных ионов иперемещаться на несколько нанометров, что позволяет создавать сверхтонкиелегированные слои.Ионная имплантация в металлы и диэлектрики позволяет в широких пределах изменять ихсвойства.
Удается, например, сплавлять металлы, не смешиваемые в жидком состоянииИонная имплантация в металлы применяется для изменения их поверхностных свойств:увеличения твердости, износостойкости, коррозионной и радиационной стойкости,увеличения сопротивления усталостному разрушению, уменьшения коэффициента трения,управления химическими, оптическими и другими свойствами. Ионная имплантацияпозволяет упрочнять поверхностные слои металлов и сплавов путем перевода их ваморфное состояние..