2-321-1399893194-2.-elektronno-luchevoe-ispareniya (Принципиальная схема процесса нанесения тонких пленок в вакууме методом электронно-лучевого испарения в)
Описание файла
PDF-файл из архива "Принципиальная схема процесса нанесения тонких пленок в вакууме методом электронно-лучевого испарения в", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "специальные предметы" из , которые можно найти в файловом архиве . Не смотря на прямую связь этого архива с , его также можно найти и в других разделах. Архив можно найти в разделе "остальное", в предмете "специальные предметы" в общих файлах.
Просмотр PDF-файла онлайн
Текст из PDF
2.Принципиальная схема процесса нанесения тонких пленок в вакуумеметодом электронно-лучевого испарения в вакууме, достоинства и недостатки.D030 – Электронно-лучевой нагрев. Испаритель с пушкой Пирса.D031 – Электронно-лучевой нагрев. Испаритель с аксиальной пушкой.Достоинства:-используется эффузионный источник в виде ячейки Кнудсена и капилярныйиспаритель, в котором энергия к веществу подводится благодаря резистивномунагреву.-наличие тепловых экранов и контроль температуры обеспечиваетодинаковую энергию испарения частиц и идеальную диаграмму распределениячастиц по направлениям..