151634 (Фізико–технологічні основи фотолітографії), страница 5
Описание файла
Документ из архива "Фізико–технологічні основи фотолітографії", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "физика" из , которые можно найти в файловом архиве . Не смотря на прямую связь этого архива с , его также можно найти и в других разделах. Архив можно найти в разделе "курсовые/домашние работы", в предмете "физика" в общих файлах.
Онлайн просмотр документа "151634"
Текст 5 страницы из документа "151634"
ВИСНОВОК
В даній курсовій роботі проведено:
1) детальний огляд наукової літератури по темі "Фізико-технологічні основи фотолітографії";
2) опис основних фотолітографічних процесів;
Було встановлено, що:
а) фотолітографія застосовується для утворення рельєфу в діелектричних плівках, а також плівках металів, нанесених на поверхню напівпровідника.
б) фотолітографічний метод заснований на тому, що деякі види високомолекулярних сполук мають здатність змінювати свої властивості під дією світла. При умові стійкості плівок цих сполук (фоторезистів) до травників, що застосовуються у процесі фотолітографії, вони можуть бути використані для захисту при формуванні рельєфу.
Можливість створення елементів будь-якої конфігурації, висока відтворюваність розмірів і їхніх розташувань, групова обробка великого числа переходів - такі основні достоїнства фотолітографії.
ЛІТЕРАТУРА
1.Боков Ю.С. Фото- , електроно- и рентгенорезисты. – М.: Радио и связь, 1982. – 136 с.
2. Лаврищев В.П. Введение в фотолитографию. – М.: Энергия, 1977. – 352с.
3.Прищепа М.М., Погребняк В.П. Мікроелектроніка. В 3ч.Ч1. Елементи мікроелектроніки. – К.: Вища школа, 2004. – 431с.
4.Пресс Ф.П. Фотолитографические методы в технологии полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. – М.: Сов. Радио,1978. – 96с.
5.Пресс Ф.П. Фотолитография в производстве полупроводниковых приборов. –М.: Энергия,1968. – 200 с.
6.Готра З.Ю., Лопатинський І.Є., Лукіянець Б.А. Фізичні основи електронної техніки. – Львів: Бескид Біт, 2004. – 880 с.
7.Березин Г.Н., Микитин А.В., Сурис Р.А. Оптические основы контактной фотолитографии. – М.: Радио и связь, 1982. – 104с.
8.Проблемы литографии в микроэлектронике. – М.: Наука,1987. –150с.
9.Готра З.Ю. Фізичні основи електронної техніки. – Львів: Видавництво "Львівська політехніка",2002. – 636с.
10. Волков В. А. Сборка и герметизация микроелектронных устройств. – М.: Радио и связь, 1982.
11. Электронно-лучевая технология в изготовлении микроелектронных приборов/Под. ред. Брюэра Дж. Р. Пер. с англ. – М.: Радио и связь, 1984.