Методика работы с NtegraSpectra
Описание файла
Документ из архива "Методика работы с NtegraSpectra", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "методы диагностики в нанотехнологиях" из 6 семестр, которые можно найти в файловом архиве МГТУ им. Н.Э.Баумана. Не смотря на прямую связь этого архива с МГТУ им. Н.Э.Баумана, его также можно найти и в других разделах. Архив можно найти в разделе "книги и методические указания", в предмете "методы диагностики в нанотехнологиях" в общих файлах.
Онлайн просмотр документа "Методика работы с NtegraSpectra"
Текст из документа "Методика работы с NtegraSpectra"
Приложение б
УТВЕРЖДАЮ
Проректор по экономике
и инновациям
МГТУ им Н.Э. Баумана
Е.А. Старожук
«____»__________2013 г.
МЕТОДИКА
диагностики наноразмерных полупроводниковых А3В5 гетероструктур и наноустройств на основе атомно-силовой микроскопии
Руководитель НИР:
к.т.н., доцент
С.А. Мешков
2013
-
Введение
Сканирующая зондовая микроскопия (СЗМ) — совокупность методов, основанных на использовании механического зонда для получения увеличенных изображений поверхности. Метод позволяет проводить изучение свойств поверхности как в микрометровом масштабе, так и на уровне отдельных атомов. Наиболее широкое применение метод СЗМ находит при диагностике поверхности. В условиях сверхвысокого вакуума он позволяет визуализировать структуру поверхности с атомным разрешением, наблюдать сверхрешетки, возникающие в результате перестройки поверхностных атомов, атомные ступеньки, химические реакции на поверхности и т.п. Этим методом можно получать трехмерное изображение на воздухе, в жидкости и в вакууме с разрешением до 0,1 нм. В конструкцию СЗМ входят зонд, пьезоэлектрические двигатели для перемещения зонда, электронная цепь обратной связи и компьютер для управления процессом сканирования, получения и обработки изображений.
Одной из задач при диагностике многослойных наноразмерных полупроводниковых А3В5 гетероструктур является изучение диффузионных процессов внутри гетероструктуры, приводящих к деградации ее электрических характеристик и параметров приборов на ее основе. Эта задача может решаться, в частности, путем послойного ионного травления гетероструктуры с Оже-анализом элементного состава слоев. При этом важно знать с высокой точностью скорость травления различных слоев для получения требуемого разрешения по глубине образца. Важно знать и профиль поверхности внутри кратера травления, что также влияет на разрешение Оже-анализа по глубине.
Для определения скорости травления и профиля поверхности внутри кратера травления могут использоваться методы СЗМ.
-
Краткие теоретические сведения
Сканирующая зондовая микроскопия (СЗМ) — один из мощных современных методов исследования морфологии и локальных свойств поверхности твердого тела с высоким пространственным разрешением. В сканирующих зондовых микроскопах исследование микрорельефа поверхности и ее локальных свойств проводится с помощью специальных зондов в форме игл. Рабочая часть таких зондов (острие) имеет размеры порядка десяти нанометров. Характерное расстояние между зондом и поверхностью образцов в зондовых микроскопах по порядку величин составляет 0,1–10 нм. В основе работы зондовых микроскопов лежат различные типы взаимодействия зонда с поверхностью. Так, работа туннельного микроскопа основана на явлении протекания туннельного тока между металлической иглой и проводящим образцом; различные типы силового взаимодействия лежат в основе работы атомно-силового, магнитно-силового и электросилового микроскопов.
-
Общие положения: назначение и область применения
Методика предназначена для диагностики наноразмерных полупроводниковых А3В5 гетероструктур и наноустройств методом атомно-силовой микроскопии.
Цель работы – совершенствование методов диагностики при исследованиях надежности наноустройств на базе наноразмерных полупроводниковых А3В5 гетероструктур и определение конструкторско-технологических путей ее повышения.
Объекты диагностики – наноразмерные полупроводниковые А3В5 гетероструктуры и наноустройства на их основе.
-
Требования к погрешности измерений
Погрешность измерения требуемых параметров не должна превышать погрешности измерительного оборудования и метода измерения.
Диапазон сканирования в плоскости ХУ - 100х100 мкм;
Разрешение в плоскости ХУ не более - 0.15 нм;
Реально-контролируемое разрешение в плоскости ХУ – 0.24 нм.
Диапазон сканирования по оси Z – 7 мкм;
Разрешение по оси Z не более - 0.1 нм.
-
Требования к образцам наноразмерных полупроводниковых А3В5 гетероструктур для атомно-силовой микроскопии
Размер образца:
-
Диаметр до 40 мм;
-
Толщина до 15 мм;
-
Вес до 100г.
Поверхностная и межслойная шероховатость – не более 2 мкм (не более 9-го квалитета).
-
Средства измерений и подготовки образцов
Перечень средств измерений представлен в таблице Б.1.
Таблица Б.1 – Средства измерений
№ п/п | Наименование СИ | Изготовитель | Назначение |
1 | Зондовая нанолаборатория Ntegra Spectra | NT-MDT, Россия | Измерение характеристик рельефа поверхности и т.п. |
При подготовке образцов к измерениям могут применяться следующие средства:
-
очищение поверхности в ультразвуковой ванне (для неорганических образцов);
-
изопропиловый спирт «особой чистоты ос.ч 11-5 ОП-1»;
-
баллон со сжатым воздухом.
Работать с очищенными образцами следует в перчатках, непосредственно образцы брать пинцетом.
-
Требования безопасности и охраны окружающей среды
При обработке данных исследований (если она проводится с помощью ЭВМ) необходимо соблюдать меры электробезопасности по ГОСТ 12.1.019-79, если другое не установлено в технической документации на измерительное оборудование и применяемые средства измерений.
-
Требования к квалификации операторов
К работе с испытательным оборудованием допускаются лица, прошедшие инструктаж по технике безопасности и допущенные к самостоятельной работе с измерительным оборудованием. Специальных требований к квалификации операторов в процессе проведения измерений не предъявляется.
-
Условия измерений
Проведение измерений на зондовой нанолаборатории Ntegra Spectra осуществлять при следующих условиях :
-
температура – (20 5) С;
-
относительная влажность – от 30 до 70 %;
-
атмосферное давление – (76030 мм рт. ст);
-
электрическая сеть с напряжением 110/220 В (+10 % / –15 %), 50/60 Гц и заземлением;
-
рабочее помещение должно быть защищено от механических вибраций и акустических шумов как внутренних, так и внешних;
-
прибор должен быть защищен от воздействия прямых солнечных лучей;
-
базовый блок прибора следует разместить на отдельном столе, на расстоянии не менее 1 м. от компьютера и мониторов, чтобы уменьшить влияние электромагнитных помех.
-
Подготовка к измерениям
-
Визуальный контроль образцов на наличие загрязнений поверхности измеряемого образца.
-
Протирка поверхности покрытий чистой тканью либо ее обдув сжатым воздухом.
Включение зондовой нанолаборатории Ntegra Spectra осуществляется в следующей последовательности:
-
Включить компьютер и монитор. Загрузить программное обеспечение (ПО) NOVA.
-
Включить прибор тумблером на передней панели СЗМ контроллера.
-
Меры предосторожности, соблюдаемые при подготовке образцов
Проведение операции очистки образцов необходимо осуществлять в хорошо проветриваемом помещении во избежание попадания паров спирта в дыхательные пути.
-
Основные принципы атомно-силовой микроскопии
Атомно-силовой микроскоп (АСМ) был изобретён в 1986 году Гердом Биннигом, Кэлвином Куэйтом и Кристофером Гербером. В основе работы АСМ лежит силовое взаимодействие между зондом и поверхностью, для регистрации которого используются специальные зондовые датчики, представляющие собой упругую консоль с острым зондом на конце (рисунок Б.1). Сила, действующая на зонд со стороны поверхности, приводит к изгибу консоли. Регистрируя величину изгиба, можно контролировать силу взаимодействия зонда с поверхностью.
Рисунок Б.1 – Схематическое изображение зондового датчика АСМ
Качественно работу АСМ (при расстояниях между зондом и образцом r > 1 нм) можно пояснить на примере сил Ван-дер-Ваальса. Наиболее часто энергию ван-дер-ваальсова взаимодействия двух атомов, находящихся на расстоянии r друг от друга, аппроксимируют степенной функцией — потенциалом Леннарда–Джонса:
(1)
Первое слагаемое в данном выражении описывает дальнодействующее притяжение, обусловленное, в основном, диполь — дипольным взаимодействием атомов. Второе слагаемое учитывает отталкивание атомов на малых расстояниях. Параметр r0 — равновесное расстояние между атомами; U0 — значение энергии в минимуме (рисунки Б.2, Б.3).
Рисунок Б.2 — Качественный вид потенциала Леннарда–Джонса
Рисунок Б.3 — К расчёту энергии взаимодействия зонда и образца
Потенциал Леннарда–Джонса позволяет оценить силу взаимодействия зонда с образцом. Общую энергию системы можно получить, суммируя элементарные взаимодействия для каждого из атомов зонда и образца.
Тогда для энергии взаимодействия получаем:
(2)
где ns(r) и np(r’) — плотности атомов в материале образца и зонда. Соответственно сила, действующая на зонд со стороны поверхности, может быть вычислена следующим образом:
(3)
В общем случае данная сила имеет как нормальную к поверхности, так и латеральную (лежащую в плоскости поверхности образца) составляющие. Реальное взаимодействие зонда с образцом имеет более сложный характер, однако основные черты данного взаимодействия сохраняются — зонд АСМ испытывает притяжение со стороны образца на больших расстояниях и отталкивание на малых.
Получение АСМ изображений рельефа поверхности связано с регистрацией малых изгибов упругой консоли зондового датчика. В атомно-силовой микроскопии для этой цели широко используются оптические методы (рисунок Б.4).
Рисунок Б.4 — Схема оптической регистрации изгиба консоли зондового датчика АСМ
Оптическая система АСМ юстируется таким образом, чтобы излучение полупроводникового лазера фокусировалось на консоли зондового датчика, а отражённый пучок попадал в центр фоточувствительной области фотоприёмника. В качестве позиционно-чувствительных фотоприёмников применяются четырёхсекционные полупроводниковые фотодиоды.
Основные регистрируемые оптической системой параметры — это деформации изгиба консоли под действием Z-компонент сил притяжения или отталкивания (FL) взаимодействия зонда с поверхностью. Если обозначить исходные значения фототока в секциях фотодиода через I01, I02, I03, I04, а через I1, I2, I3, I4 — значения токов после изменения положения консоли, то разностные токи с различных секций фотодиода ∆Ii = Ii - I0i будут однозначно характеризовать величину и направление изгиба консоли зондового датчика АСМ. Действительно, разность токов вида:
∆IZ = (∆I1 + ∆I2) - (∆I3 + ∆I4) (4)
пропорциональна изгибу консоли под действием силы, действующей по нормали к поверхности образца (рисунок Б.5), а комбинация разностных токов вида
∆IL = (∆I1 + ∆I4) - (∆I2 + ∆I3) (5)
характеризует изгиб консоли под действием латеральных сил.