Для студентов МАИ по предмету ДругиеПроектирование схемы автоматизации процесса ректификацииПроектирование схемы автоматизации процесса ректификации
2024-11-012024-11-01СтудИзба
Курсовая работа: Проектирование схемы автоматизации процесса ректификации
Описание
Оглавление
1 СИСТЕМА АВТОМАТИЧЕСКОГО РЕГУЛИРОВАНИЯ ТЕМПЕРАТУРЫ ОСАДИТЕЛЬНОЙ ВАННЫ3
1.1 Исходные данные 6
1.2 Расчёты 6
1.3 Результаты 11
2. ПРОЕКТИРОВАНИЕ СХЕМЫ АВТОМАТИЗАЦИИ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ПРОЧЕССА РЕКТИФИКАЦИИ 13
3. ДАТЧИКИ, РЕГУЛЯТОРЫ, ИСПОЛНИТЕЛЬНЫЙ МЕХАНИЗМ19
Список использованных источников 28
1. СИСТЕМА АВТОМАТИЧЕСКОГО РЕГУЛИРОВАНИЯ ТЕМПЕРАТУРЫ ОСАДИТЕЛЬНОЙ ВАННЫ
Формование химических нитей из раствора производится в осадительную ванну, температура которой должна поддерживаться очень точно. В зависимости о типа формуемой нити требуемая температура может быть в диапазоне 30-50°С, а точность ее поддержания должна быть не ниже, чем ±(1-2)°С.
Для подогрева осадительной ванны можно использовать «глухой» пар, то есть пар, пропускаемый через змеевик, находящийся в ванне.
Выведем уравнение объекта регулирования. В системе объектом регулирования является емкость с осадительным раствором. С помощью САР температура раствора поддерживается с определенной точностью на постоянном уровне, соответствующем нормальному протеканию технологического процесса. Уравнение динамики регулируемого объекта, связывающее температуру раствора Θр , количество тепла Q, подводимого к ёмкости, и температуру окружающего во
1 СИСТЕМА АВТОМАТИЧЕСКОГО РЕГУЛИРОВАНИЯ ТЕМПЕРАТУРЫ ОСАДИТЕЛЬНОЙ ВАННЫ3
1.1 Исходные данные 6
1.2 Расчёты 6
1.3 Результаты 11
2. ПРОЕКТИРОВАНИЕ СХЕМЫ АВТОМАТИЗАЦИИ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ПРОЧЕССА РЕКТИФИКАЦИИ 13
3. ДАТЧИКИ, РЕГУЛЯТОРЫ, ИСПОЛНИТЕЛЬНЫЙ МЕХАНИЗМ19
Список использованных источников 28
1. СИСТЕМА АВТОМАТИЧЕСКОГО РЕГУЛИРОВАНИЯ ТЕМПЕРАТУРЫ ОСАДИТЕЛЬНОЙ ВАННЫ
Формование химических нитей из раствора производится в осадительную ванну, температура которой должна поддерживаться очень точно. В зависимости о типа формуемой нити требуемая температура может быть в диапазоне 30-50°С, а точность ее поддержания должна быть не ниже, чем ±(1-2)°С.
Для подогрева осадительной ванны можно использовать «глухой» пар, то есть пар, пропускаемый через змеевик, находящийся в ванне.
Выведем уравнение объекта регулирования. В системе объектом регулирования является емкость с осадительным раствором. С помощью САР температура раствора поддерживается с определенной точностью на постоянном уровне, соответствующем нормальному протеканию технологического процесса. Уравнение динамики регулируемого объекта, связывающее температуру раствора Θр , количество тепла Q, подводимого к ёмкости, и температуру окружающего во
Характеристики курсовой работы
Список файлов
Проектирование схемы автоматизации процесса ректификации.docx