Для студентов МГТУ им. Н.Э.Баумана по предмету Дипломы и ВКРИсследование процесса фотолитографии при производстве СВЧ транзистора на основе AlGaN-GaNИсследование процесса фотолитографии при производстве СВЧ транзистора на основе AlGaN-GaN
2017-12-212017-12-21СтудИзба
ВКР: Исследование процесса фотолитографии при производстве СВЧ транзистора на основе AlGaN-GaN
-21%
Описание
Описание файла отсутствует
Характеристики ВКР
Предмет
Учебное заведение
Просмотров
123
Покупок
0
Размер
56,77 Mb
Список файлов
- Исследование процесса фотолитографии при производстве СВЧ транзистора на основе AlGaN-GaN
- 1 Тразнистор и ВАХ.jpg 12,08 Mb
- 2 Технология.jpg 10,49 Mb
- 3 Чистая зона и оборудование.jpg 13,91 Mb
- 4 Общий вид установки ЭМ5026.jpg 8,61 Mb
- 5.1 Принципиальная схема.jpg 8,63 Mb
- 5.2 Ручка.jpg 5,09 Mb
- 5.3 Ручка грубой регулировки.jpg 2,9 Mb
- 6 Сборка ручки.jpg 9,63 Mb
- 7 Распределение интенсивности.jpg 10,3 Mb
- 8 САУ.jpg 11,08 Mb
- АнтиплагиатЛ.doc 39 Kb
- Презентация.pptx 5,27 Mb
- Приложение А.docx 36,99 Kb
- Приложение Б.docx 36,78 Kb
- Приложение В1.docx 37,08 Kb
- Приложение В2.docx 36,46 Kb
- РПЗ ВКРМ Рубцова 3.docx 6,35 Mb
- Рецензия ВКРМ Рубцова.doc 27,5 Kb
- Речь на диплом.docx 118,51 Kb
- Спецификация.jpg 2,24 Mb
Хочешь зарабатывать на СтудИзбе больше 10к рублей в месяц? Научу бесплатно!
Начать зарабатывать
Начать зарабатывать