03 (Ответы в ворде)
Описание файла
Файл "03" внутри архива находится в следующих папках: 2003, Мне. Документ из архива "Ответы в ворде", который расположен в категории "". Всё это находится в предмете "конструирование плат" из 7 семестр, которые можно найти в файловом архиве МАИ. Не смотря на прямую связь этого архива с МАИ, его также можно найти и в других разделах. Архив можно найти в разделе "к экзамену/зачёту", в предмете "конструирование плат" в общих файлах.
Онлайн просмотр документа "03"
Текст из документа "03"
03. Конструкция и структуры тонкопленочных проводников и пассивных элементов микросборок. Материалы, размеры, характеристики, основные расчетные соотношения. Виды технологических операций формирования структуры пленочных резисторов.
Термическое напыление в вакууме. Такое напыление основано на свойстве атомов (молекул) металлов и некоторых других материалов при испарении в условиях высокого вакуума перемещаться прямолинейно (лучеобразно) и осаждаться на поверхности, поставленной на пути их движения.
У становка для напыления в вакууме (рис. 15.3) состоит из плоской плиты 6, на которой устанавливается стеклянный или металлический колпак 9. В последнем случае он снабжается смотровым стеклом. На плите предусмотрены два изолированных вакуумплотных вывода 4 для питания испарителя 3. На некотором расстоянии от испарителя помещается подложка 10, на которую наносится тонкая пленка. Подложка нагревается и до достижения заданного режима закрыта заслонкой 1.
Рис. 15.3. Установка для термического напыления в вакууме:
1 - заслонка; 2 - испаряемый материал: 3 - испаритель; 4 - вакуумплотные выводы;
5 - герметизирующая прокладка; 6 - плита; 7 - присоединение к вакуумному насосу;
8 - изолятор выводов; 9 - колпак; 10 - подложка; 11- держатель подложки; 12 – нагреватель.
В соответствии с физическими процессами, происходящими, при испарении в вакууме, можно выделить следующие области образования пленки: 1) перевод напыляемого материала в парообразное состояние; 2) перенос пара от источника испарения к подложке; 3) конденсация пара на подложке и образование пленки.
Перевод напыляемого материала в парообразное состояние. В области образования паров происходит испарение материала, который нагревается до тех пор, пока давление его паров не превысит давления остаточных газов. При этом наиболее нагретые молекулы, обладающие высокой кинетической энергией, преодолевают силы молекулярного притяжения и отрываются от поверхности расплава. Вследствие резко пониженной теплопередачи в условиях высокого вакуума перегрева подложек не происходит.
Для некоторых материалов условная температура испарения ниже температуры плавления. Например, хром имеет температуру плавления 1800°С, а испаряется при нагревании в вакууме при температуре 1205°С. Переход вещества из твердого состояния в парообразное минуя жидкое называется сублимацией.