Для студентов МГТУ им. Н.Э.Баумана по предмету Термовакуумные процессы и оборудование (МТ-11)Технологические режимы при формировании наноструктур методом химического газофазного осаждения (CVD). Состав газовой смеси. Подложки и катализаторы. ТТехнологические режимы при формировании наноструктур методом химического газофазного осаждения (CVD). Состав газовой смеси. Подложки и катализаторы. Т
2022-05-082022-05-08СтудИзба
Технологические режимы при формировании наноструктур методом химического газофазного осаждения (CVD). Состав газовой смеси. Подложки и катализаторы. Температурные режимы
Описание
Технологические режимы при формировании наноструктур методом химического газофазного осаждения (CVD). Состав газовой смеси. Подложки и катализаторы. Температурные режимы.
Характеристики реферата
Тип
Учебное заведение
Семестр
Теги
Просмотров
25
Покупок
1
Качество
Идеальное компьютерное
Размер
792,71 Kb
Список файлов
- CVD_Режимы.pdf 792,71 Kb